[发明专利]工件容器系统在审

专利信息
申请号: 202110402342.6 申请日: 2021-04-14
公开(公告)号: CN114313545A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 邱铭乾;庄家和;薛新民;温星闵;林书弘 申请(专利权)人: 家登精密工业股份有限公司
主分类号: B65D25/02 分类号: B65D25/02;B65D25/24
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 唐芳芳
地址: 中国台湾新北*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 工件 容器 系统
【权利要求书】:

1.一种工件容器系统,其特征在于,所述工件容器系统包括:

储存组件,所述储存组件包括:

座构件,所述座构件具有:

储存部分,所述储存部分限定穿过其几何中心区域的纵向轴线、配备有工件接收区域,所述工件接收区域包含所述几何中心区域并且经配置以用于接收工件,和

一对侧翼部分,所述侧翼部分沿着所述纵向轴线被布置在所述存储部分的相反侧上,每个所述侧翼部分具有比所述存储部分的厚度更薄的厚度,

其中,所述存储部分具有扩散诱导组件,所述扩散诱导组件位于所述工件接收区域中且与所述几何中心区域错位。

2.根据权利要求1所述的工件容器系统,其特征在于,

所述工件接收区域经配置以接收具有图案区域的基板;并且

其中,所述扩散诱导组件被设置在所述图案区域的平面投影内。

3.根据权利要求2所述的工件容器系统,其特征在于,其中,所述扩散诱导组件包括多个扩散端口组件,所述多个扩散端口组件布置在所述工件接收区域中且在所述储存部分的所述几何中心区域周围。

4.根据权利要求3所述的工件容器系统,其特征在于,所述扩散端口组件包括过滤器盖和盖固持构件,其中,所述过滤器盖和所述盖固持构件在组装时保持与所述座构件的外表面基本齐平。

5.根据权利要求4所述的工件容器系统,其特征在于,所述扩散端口组件进一步包括过滤膜,所述过滤膜经配置以由所述过滤器盖固持,其中所述过滤膜不含氟成分。

6.根据权利要求3所述的工件容器系统,其特征在于,所述扩散端口组件中的至少一个扩散端口组件被布置在所述存储部分的所述几何中心区域周围的相应象限区域。

7.根据权利要求6所述的工件容器系统,其特征在于,所述座构件的存储部分设置有多个重量剃削区域,所述多个重量剃削区域分别被布置在所述几何中心区域周围的每个所述象限区域,

其中,所述座构件在所述重量剃削区域中的厚度比在所述几何中心区域中的厚度薄,其中,所述扩散端口组件分别设置在所述重量剃削区域。

8.根据权利要求6所述的工件容器系统,其特征在于,

所述座构件的存储部分设置有与所述图案区域的投影相对应地布置的重量剃削区域,其中,所述扩散端口组件布置在所述重量剃削区域。

9.根据权利要求2所述的容器系统,其特征在于,所述座构件设置有沟槽结构,所述沟槽结构具有封闭所述工件接收区域的平面环形轮廓。

10.根据权利要求9所述的容器系统,其特征在于,

所述座构件进一步设置有多个定位结构,所述多个定位结构在所述工件接收区域的相应转角周围突出地布置,

其中,所述沟槽结构包括多个引导沟槽段,所述多个引导沟槽段分别围绕所述定位结构。

11.一种工件容器系统,其特征在于,所述工件容器系统包括:

储存组件,所述储存组件包括:

座构件,所述座构件限定工件接收区域,所述工件接收区域包含其几何中心区域,所述座构件构经配置以接收具有图案区域的基板,

其中,所述座构件设有下扩散诱导组件,所述下扩散诱导组件在所述基板的所述图案区域的平面投影内且与所述几何中心区域错位;和

座盖,所述座盖经配置以在围绕所述座构件的所述工件接收区域的周边区域处接合所述座构件,所述座盖经配置以配合地形成用于容纳所述基板的封闭件。

12.根据权利要求11所述的工件容器系统,其特征在于,所述下扩散诱导组件包括多个扩散端口组件,所述扩散端口组件布置在所述工件接收区域中且在所述几何中心区域周围。

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