[发明专利]工件容器系统

说明书

本文公开了包括存储组件的工件容器系统，所述存储组件包括座构件。所述座构件具有存储部分，所述存储部分限定通过其几何中心区域的纵向轴线，所述存储部分设置有工件接收区域，所述工件接收区域包含所述几何中心区域并且经配置以接收工件。该座构件具有一对侧翼部分，该对侧翼部分沿着该纵向轴线被设置在该存储部分的相反侧上，每个侧翼部分具有比该存储部分的厚度更薄的厚度。存储部分具有扩散诱导组件，所述扩散诱导组件在工件接收区域中且与所述几何中心区域错位。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年9月30日提交的中国台湾专利申请号109134304及2021 年2月5日提交的美国专利申请号17/168207的权益，所述申请在此通过引用并入本文并且构成说明书的一部分。

技术领域

本案涉及用于存储、运输、航运和处理诸如光掩模、掩模版和晶片等易碎物体的容器，并且尤其涉及用于存储、运输、航运和处理掩模版的保持固持系统，该掩模版用于极紫外(extreme ultraviolet,EUV)光刻工艺的处理。

背景技术

在半导体行业中，随着工件容器(例如，光掩模/掩模版保持器掩模版固持器)有效载荷的精度要求的提高，工件容器得到了发展，以满足提高工件保护水平使其免受潜在环境危害的需求。

例如，新一代的掩模版(reticle)固持器有时设置有双盒结构，该双盒结构包括用于接收/储存掩模版的储存组件(例如，内盒单元)和用于容纳/ 运输该储存组件的运输组件(例如，外盒单元)。在运输期间，掩模版可被包装在存储组件内。出于存储目的，可将其中容纳掩模版的容器系统(例如，在大气环境下由机器人)运送至外开盒器。此后，该运输组件可以被该开盒器打开以便允许从中取出该储存组件。然后，内盒可以(例如，在真空环境下由机器人)被运送到真空掩模版库并且存储在其中。为了执行光刻工艺，当到达曝光设备内部的指定位置时，在使用包含被收容的掩模版进行后续曝光过程之前，就可以打开内盒。

然而，当使用该容器系统来储存/运输工件时，在该储存组件内部可能存在颗粒污染物、气相污染物(例如，废气或湿气)、或空气传播的分子污染物(airborne molecularcontaminants，AMC)。污染物可能不利地影响所接收的工件。因此，需要一种用于容器系统的污染控制机制。

附图说明

为了可以详细地理解本案的所述特征，可以通过参考实施例来对以上简要概述的本案进行更详细的描述，其中一些实施例在附图中示出。然而，应当注意，附图仅示出了本案的典型实施例，因此不应被认为是对其范围的限制，因为本案可以允许其他同等有效的实施例。

图1示出了根据本案的一些实施例的工件容器系统的示例性横截面图；

图2示出了根据本案的一些实施例的工件容器系统的等距视图；

图3示出了根据本案的一些实施例的座构件的等距分解视图；

图4a示出了根据本案的一些实施例的座构件的底视图；

图4b示出了根据本案的一些实施例的座构件的示例性横截面图；

图5a示出了根据本案的一些实施例的座构件的仰视图；

图5b示出了根据本案的一些实施例的座构件的示例性横截面视图；

图6a示出了根据本案的一些实施例的座构件的俯视图；

图6b示出了根据本案的一些实施例的座构件的示例性横截面视图；

图7示出了根据本案的一些实施例的座盖的等距分解视图；

图8a至图8e分别示出了根据本案的一些实施例的座构件的示意图；

图9a示出了根据本案的一些实施例的座构件的示意图；