[发明专利]曝光设备和制造显示装置的方法

说明书

本公开提供一种曝光设备和制造显示装置的方法，所述曝光设备包括：光源单元，所述光源单元提供用于曝光的光并且包括以矩阵形式布置的微发光二极管；基底传送单元，所述基底传送单元传送目标基底；以及控制单元，所述控制单元控制所述光源单元和所述基底传送单元中的至少一个。所述控制单元将坐标或者地址分配给每个微发光二极管，并且基于所述坐标或者所述地址根据预设图案单独控制每个微发光二极管的光量。

本申请要求于2020年4月16日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0045791号韩国专利申请的权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部合并在本文中。

技术领域

本公开涉及一种曝光设备和使用曝光设备制造显示装置的方法。

背景技术

光刻装置是类似照片打印技术的使用光形成复杂电路图案的装置。光刻装置可以在用于制造例如半导体装置，诸如液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)和电致发光显示器(ELD)的显示面板，集成电路和平板显示器的图案形成中被使用。

在常规光刻中，通过经由光掩模将光致抗蚀剂曝光，在涂覆有光致抗蚀剂的基底上形成期望图案，在光掩模中在石英或玻璃板上由例如主要为铬的金属薄膜形成图案。

在上述工艺中，可以使用由单独可操作元件的阵列组成的图案化装置来代替光掩模。图案化装置被编程以使用单独可操作元件的阵列形成期望图案的光束。由于通过程序照射的光束可以修改为期望图案，因此这种“无掩模”系统可以无附加成本地形成各种形状的图案。另外，无掩模系统比常规的基于掩模的系统更快和更便宜。

代表性的可编程图案化装置是使用数字镜装置(DMD)的曝光设备。DMD是在诸如投影仪和电视机的电子产品中被作为用于生成图像的元件的装置，并且在无掩模光刻系统中是用于生成图案的关键组件。在DMD中，镜根据电信号旋转以形成期望图案的图像。也就是说，DMD类似能够进行图案修改的光掩模。使用DMD的曝光设备允许在其设计改变时易于使用先前的数据，可以立即纠正设计误差，并且可以减少设计时间。另一方面，DMD需要用于图案化图像投影的复杂光学系统，并且由于光通过DMD照射而遭受光损失。

发明内容

本公开的各方面提供一种可以形成各种图案而无需更换光源或掩模的曝光设备以及使用该曝光设备制造显示装置的方法。

本公开的各方面还提供一种具有低光损失的曝光设备以及使用该曝光设备制造显示装置的方法。

本公开的各方面还提供一种可以节省安装空间的曝光设备以及使用该曝光设备制造显示装置的方法。

然而，本公开的各方面不限于在本文中阐述的那些方面。通过参照下面给出的本公开的详细描述，本公开的上述和其它方面对于本公开所属领域的普通技术人员将变得更加明显。

根据本公开的一方面，提供一种曝光设备，所述曝光设备包括：光源单元，所述光源单元提供用于曝光的光并且包括以矩阵形式布置的微发光二极管；基底传送单元，所述基底传送单元传送目标基底；以及控制单元，所述控制单元控制所述光源单元和所述基底传送单元中的至少一个。所述控制单元将坐标或者地址分配给每个微发光二极管，并且基于所述坐标或者所述地址根据预设图案单独控制每个微发光二极管的光量。

根据本公开的另一方面，提供一种曝光设备，所述曝光设备包括：光源单元，所述光源单元提供用于曝光的光并且包括以矩阵形式布置的单元发光单位；基底传送单元，所述基底传送单元传送目标基底；以及控制单元，所述控制单元控制所述光源单元和所述基底传送单元中的至少一个。所述控制单元将坐标或者地址分配给每个单元发光单位，并且基于所述坐标或者所述地址根据预设图案单独控制每个单元发光单位的光量。

根据本公开的另一方面，提供一种制造显示装置的方法，所述方法包括：在基体基底上堆叠至少一个材料层；在所述至少一个材料层上涂覆光敏材料；通过单独控制每个微发光二极管的光量输出预设图案；将所述光敏材料曝光；去除所述光敏材料的部分；以及在所述至少一个材料层中蚀刻第一图案。