[发明专利]精细金属掩模版及掩模装置有效
申请号: | 202110405284.2 | 申请日: | 2021-04-15 |
公开(公告)号: | CN113088879B | 公开(公告)日: | 2023-01-20 |
发明(设计)人: | 吴建鹏;梅菊;李剑波;丁文彪 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 张筱宁;宋海斌 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 精细 金属 模版 装置 | ||
1.一种精细金属掩模版,其特征在于,包括:图案区域和位于所述图案区域外围的辅助区;
所述图案区域包括至少两个第一子图案区域和至少两个第二子图案区域,所述第一子图案区域和所述第二子图案区域在平行于所述精细金属掩模版的第一方向上交替排列;在平行于所述精细金属掩模版的第二方向上,所述第一子图案区域的两侧均设置有第一凹形区,所述第二方向垂直于所述第一方向;所述精细金属掩模版沿所述第一方向的尺寸大于沿所述第二方向的尺寸;
在所述第一方向上,所述第一凹形区的最大宽度,与所述第一子图案区域宽度的平方和第一差值的平方之和的开方成正相关;所述第一差值为第一距离和第二距离的差值,所述第一距离为所述第二子图案区域的边界线和所述辅助区的边界线在所述第二方向上的距离,所述第二距离为所述第二子图案区域的边界线和所述第二子图案区域中第一图形区的边界线在所述第二方向上的距离。
2.根据权利要求1所述的精细金属掩模版,其特征在于,在所述图案区域的中央指向两端的方向上,所述第一凹形区的最大宽度逐渐减小。
3.根据权利要求1所述的精细金属掩模版,其特征在于,在所述第二方向上,所述第一凹形区的边界线与所述辅助区的边界线的最大长度,与所述第二距离和所述第一凹形区的最大宽度成正相关。
4.根据权利要求1所述的精细金属掩模版,其特征在于,在所述第二方向上,所述第二子图案区域的两侧均设置有第二凹形区。
5.根据权利要求4所述的精细金属掩模版,其特征在于,所述第二子图案区域的第一图形区位于两个所述第二凹形区之间。
6.根据权利要求4所述的精细金属掩模版,其特征在于,在所述第一方向上,所述第二凹形区的最大宽度,与所述第二子图案区域宽度的平方和所述第一差值的平方之差的开方成正相关。
7.根据权利要求6所述的精细金属掩模版,其特征在于,在所述第二方向上,所述第二凹形区的边界线与所述辅助区的边界线的最大长度,与所述第二距离成正相关。
8.根据权利要求4所述的精细金属掩模版,其特征在于,在垂直于所述精细金属掩模版的方向上,所述第一凹形区和/或所述第二凹形区的边界线的形状,包括直线段和曲线段中一种或组合。
9.根据权利要求1所述的精细金属掩模版,其特征在于,所述辅助区包括缓冲区域和夹爪区域;
所述图案区域的两端均设置有所述缓冲区域,所述缓冲区域远离所述图案区域的一端设置有所述夹爪区域,所述缓冲区域或所述夹爪区域中设置有对位孔。
10.一种掩模装置,其特征在于,包括:精细金属掩模版框架、精细金属掩模版支撑架和至少一个如上述权利要求1-9中任一项所述的精细金属掩模版;
所述精细金属掩模版支撑架设置有镂空区域,所述镂空区域与所述精细金属掩模版中第二子图案区域的第一图形区相匹配。
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