[发明专利]精细金属掩模版及掩模装置

说明书

本申请实施例提供了一种精细金属掩模板及掩模装置。在本申请实施例提供的精细金属掩模板中，包括图案区域和位于图案区域外围的辅助区，图案区域包括在平行于精细金属掩模版的第一方向上交替排列的第一子图案区域和第二子图案区域，由于第一子图案区域的两侧均设置有第一凹形区，第一凹形区将图案区域的至少部分分隔形成若干相互分离的子部分，通过第一凹形区释放精细金属掩模板的应力，能够有效降低精细金属掩模板中积聚的应力，从而能够降低精细金属掩模版中出现的褶皱的幅值程度，进而能够保障精细金属掩模版的平坦度。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体而言，本申请涉及一种精细金属掩模版及掩模装置。

背景技术

目前，在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板的蒸镀制备工艺过程中，通常会使用FMM(Fine Metal Mask，精细金属掩模版)，加热蒸发的有机发光材料穿过高精度金属掩模版的开口，并沉积到背板的相应位置处，从而获得所需分辨率的显示面板。因此，精细金属掩模版会影响显示面板的分辨率。

现有精细金属掩模版在使用时首先需要张网，由于制作工艺的影响，现有制作完成的精细金属掩模版往往会出现褶皱现象，张网过程中往往会进一步加剧精细金属掩模版的褶皱现象，导致褶皱的幅值过大，导致精细金属掩模版的平坦度降低，从而对后续有机发光材料的蒸镀制备工艺产生影响，导致显示面板的生产良率降低。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种精细金属掩模版及掩模装置，用以解决现有技术中存在精细金属掩模版中褶皱的幅值过大的技术问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种精细金属掩模版，包括：图案区域和位于图案区域外围的辅助区；

图案区域包括至少两个第一子图案区域和至少两个第二子图案区域，第一子图案区域和第二子图案区域在平行于精细金属掩模版的第一方向上交替排列；在平行于精细金属掩模版的第二方向上，第一子图案区域的两侧均设置有第一凹形区，第二方向垂直于第一方向；精细金属掩模版沿第一方向的尺寸大于沿第二方向的尺寸。

第二个方面，本申请实施例提供了一种掩模装置，包括：精细金属掩模版框架、精细金属掩模版支撑架和至少一个如上述第一个方面所提供的精细金属掩模版；

精细金属掩模版支撑架设置有镂空区域，镂空区域与精细金属掩模版中第二子图案区域的第一图形区相匹配。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：

在本申请实施例提供的精细金属掩模板中，包括图案区域和位于图案区域外围的辅助区，图案区域包括在平行于精细金属掩模版的第一方向上交替排列的第一子图案区域和第二子图案区域，由于第一子图案区域的两侧均设置有第一凹形区，第一凹形区将图案区域的至少部分分隔形成若干相互分离的子部分，通过第一凹形区释放精细金属掩模板的应力，能够有效降低精细金属掩模板中积聚的应力，从而能够降低精细金属掩模版中出现的褶皱的幅值程度，进而能够保障精细金属掩模版的平坦度。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本申请实施例提供的一种精细金属掩模版的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的图1中所示精细金属掩模版的A处放大示意图；

图3为本申请实施例提供的另一种精细金属掩模版的结构示意图；

图4为本申请实施例提供的又一种精细金属掩模版的结构示意图；

图5为本申请实施例提供的图4中所示精细金属掩模版的B处放大示意图；