[发明专利]釉层浆料、表面光滑的卫生陶瓷及陶瓷制备方法

权利要求书

1.一种釉层浆料，其特征在于，包括以下质量份的原料制得：

固体釉料成分100份，所述固体釉料由包括以下物料混合制得：石英、高岭土、球土、氧化铝、硅灰石、熔块，

石英、高岭土、球土、氧化铝、硅灰石、熔块的质量比为（6~8）：（7~11）：（3~5）：（2~4）:（1~3）：（0.25）；

水50~55份，

改良助剂，所述改良助剂包括亚硫酸钙粉末0.1~0.15份，所述亚硫酸钙粉末粒径为2~4μm；

所述釉层浆料烧制气氛为弱还原气氛或强还原气氛；

所述弱还原气氛为气氛中游离氧含量小于1%（体积），一氧化碳含量为1.5~2.5%（体积），所述弱还原气氛烧制时，所述改良助剂还包括稻壳粉，所述稻壳粉粒径为1~3μm，用量为0.02~0.04份；

所述强还原气氛为气氛中游离氧含量小于1%（体积），一氧化碳含量为2.5~7%（体积）。

2.一种卫生陶瓷，其特征在于，包括瓷体和附着于瓷体外侧的釉层，所述釉层由权利要求1所述釉层浆料烧制而成。

3.一种卫生陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

向坯体上施釉，施釉所用的浆料为权利要求1所述的釉层浆料，施釉厚度为1.6~2.4mm，得到待烧制品；

将待烧制品在弱还原气氛或强还原气氛中烧制，烧制完成后得到烧制成品。

4.一种卫生陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

向坯体上施釉，施釉所用的浆料为权利要求1所述的釉层浆料，施釉厚度为1.6~2.4mm，得到待烧制品；

将待烧制品在弱还原气氛中烧制，烧制全过程中最高且连续的烧制温度为1200±3℃，最高且连续的烧制温度下烧制时间为10~15min，烧制完成后得到烧制成品。