[发明专利]光刻方法

权利要求书

1.一种光刻方法，其特征在于，包括：

在晶圆上涂布光阻；

在所述光阻上涂布水溶性涂层，所述水溶性涂层包括水溶性材料，所述水溶性材料是能够溶解于显影液的材料；

进行曝光；

进行烘烤，在所述烘烤过程中产生的杂质掉落于所述水溶性涂层上；

进行显影，在所述显影过程中，通过溶解所述水溶性涂层将所述杂质去除。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述水溶性材料包括水溶性物质。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述杂质包括在所述烘烤过程中凝结在腔室的盖板上的有机溶剂。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述盖板上具有排气功能。

5.根据权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，所述在晶圆上涂布光阻，包括：

通过旋涂的方式在所述晶圆上涂布光阻。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述进行烘烤，包括：

将所述晶圆放置于加热板上，通过所述加热板对所述晶圆进行加热烘烤。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述进行显影，包括：

在所述晶圆的表面显影液，通过所述显影液溶解被曝光的正性光阻或未曝光的负性光阻，以及所述水溶性涂层；

对所述晶圆进行清洗，去除残留的显影液和/或反应物。