[发明专利]绕组体、绕组体的制造方法及线圈部件在审

专利信息
申请号: 202110411258.0 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN113539637A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 篠原刚太;牧谦一郎 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H01F27/28 分类号: H01F27/28;H01F27/08;H01F27/34;H01F41/061
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王玮;张丰桥
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 绕组 制造 方法 线圈 部件
【权利要求书】:

1.一种绕组体,为连续薄带以螺旋状卷绕而成的线圈部件用的绕组体,其特征在于

所述连续薄带具有多个折弯部位,并且所述连续薄带由该折弯部位区分为多个导体部并利用该折弯部位以重叠状折弯,

在所述折弯部位形成有凹陷部。

2.根据权利要求1所述的绕组体,其特征在于,

所述凹陷部以空洞状形成。

3.根据权利要求1或2所述的绕组体,其特征在于,

所述凹陷部的平均深度大于形成于所述导体部之间的间隙。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的绕组体,其特征在于,

绝缘性树脂填充于所述凹陷部的至少局部。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的绕组体,其特征在于,

所述连续薄带在以片状展开的状态下成为将至少两个相连的所述导体部作为一组的台阶状,并且所述台阶状的所述连续薄带在所述折弯部位处折弯而形成所述绕组体。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的绕组体,其特征在于,

所述连续薄带的厚度形成为相对于所述线圈部件的驱动频率而言的趋肤深度的2倍以下。

7.根据权利要求6所述的绕组体,其特征在于,

所述连续薄带的厚度为所述驱动频率的趋肤深度以上。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的绕组体,其特征在于,

所述绕组体以扁平线状形成。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的绕组体,其特征在于,

表面由绝缘性被膜覆盖。

10.一种绕组体的制造方法,为将连续薄带折弯而使连续薄带以螺旋状卷绕来制成绕组体的线圈部件用的绕组体的制造方法,其特征在于,包括:

具有开口部地将所述连续薄带切成规定形状的工序;

在使所述连续薄带折弯的折弯部位的至少局部形成缺口部的工序;以及

对于所述连续薄带在所述折弯部位处实施折弯加工以使所述缺口部形成凹陷部且使所述开口部连通而使所述连续薄带成为螺旋状的工序。

11.根据权利要求10所述的绕组体的制造方法,其特征在于,

将绝缘性树脂填充于所述凹陷部的至少局部。

12.根据权利要求10或11所述的绕组体的制造方法,其特征在于,

所述规定形状为台阶状。

13.根据权利要求10~12中任一项所述的绕组体的制造方法,其特征在于,

使与所述折弯部位正交的方向的截面成为U字状地形成所述缺口部。

14.根据权利要求10~13中任一项所述的绕组体的制造方法,其特征在于,

所述连续薄带的厚度为相对于所述线圈部件的驱动频率而言的趋肤深度的2倍以下。

15.一种线圈部件,具备线圈导体和含有磁性体材料的磁芯,

所述线圈部件的特征在于,

所述线圈导体由权利要求1~9中任一项所述的绕组体形成。

16.根据权利要求15所述的线圈部件,其特征在于,

所述线圈部件为电抗器。

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