[发明专利]一种PECVD一体炉在审
申请号: | 202110412538.3 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN113136571A | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 朱双双;刘强;左敏 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/50 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 张丹 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pecvd 一体 | ||
本发明涉及一种PECVD一体炉,所述PECVD一体炉包括:箱体和多个炉体,箱体具有容纳腔,所述容纳腔贯通所述箱体在第一方向上的两侧;及多个炉体叠置于所述容纳腔内,每一所述炉体具有炉腔以及连通所述炉腔的两个炉口,每一所述炉体的两个所述炉口分别位于所述炉体在所述第一方向上的两侧。本发明的PECVD一体炉可实现多个炉体通过箱体整合为一个PECVD一体炉,与现有技术一体成型的加热炉相比,既增加了炉腔的数量,又可以根据用户的实际生产情况,通过更改炉体的数量来整合成不同高度的PECVD一体炉,以适配不同高度的厂房。同时,PECVD一体炉既可以拆分成多个加热炉到现场安装以方便运输;也可以安装完成作为一个整体直接运输到现场以节省安装时间,加快安装进度。
技术领域
本发明涉及光伏生产设备技术领域,特别是涉及一种PECVD一体炉。
背景技术
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气象沉积是利用低温等离子体做能量源,硅片置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电(或另加发热体)使硅片升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学和等离子体反应,在硅片上形成固态薄膜。
随着太阳能发电的普及,相关的光伏产品需求量越来越大,因此对光伏设备的产能越来越高。需要增加产能,则单台设备上配备的镀膜腔体数量也急需突破。然而,现有的多腔体的加热炉往往是一体成型,无法根据高度不同的厂房进行适配,同时也不便于组装和运输。因此,亟需发明一种可以根据高度不同厂房进行调整适配又能便于组装和运输的设备加热炉。
发明内容
基于此,有必要针对现有设备加热炉无法根据厂房高度进行适配以及不便于组装和运输的问题,提供一种PECVD一体炉。
一种PECVD一体炉,其包括:
箱体,具有容纳腔,所述容纳腔贯通所述箱体在第一方向上的两侧;及
多个炉体,叠置于所述容纳腔内,每一所述炉体具有炉腔以及连通所述炉腔的两个炉口,每一所述炉体的两个所述炉口分别位于所述炉体在所述第一方向上的两侧。
在其中一个实施例中,多个所述炉体沿与所述第一方向垂直的第二方向依次堆叠,所述第一方向与所述第二方向垂直。多个炉体沿同一方向堆叠可以减少炉体相互之间的影响。
在其中一个实施例中,每相邻两个所述炉体之间设置有第一保温层;多个所述炉体中位于底层的所述炉体的底部与所述箱体之间设置有所述第一保温层。第一保温层自身有一定的强度,能够避免相邻炉体直接进行接触。
在其中一个实施例中,所述第一保温层包括保温棉层。保温棉层能够对炉体的顶部和底部进行保温。进一步地,还能够控制第一保温层中保温棉层内保温棉的厚度来控制炉体堆叠后的高度,进而适配不同的厂房和设备。
在其中一个实施例中,每一所述炉体在第三方向上的两侧分别与所述箱体之间设置有第二保温层,所述第三方向与所述第一方向和第二方向垂直。第二保温层可以在第三方向对每一个炉体进行包裹保温,配合第一保温层在第二方向上对炉体进行的包裹,可以实现对每一个炉体整体的全面包裹,保证炉腔内温度的恒定。
在其中一个实施例中,所述箱体包括支撑架及两个侧板组,两个所述侧板组分别可拆卸地连接于所述支撑架在所述第三方向上的两侧,以在两个所述侧板组之间形成所述容纳腔;每一所述第二保温层设置于对应的所述侧板组和所述炉体之间。
在其中一个实施例中,每一所述侧板组包括多个侧板,每一所述侧板与所述支撑架可拆卸地连接,每一所述第二保温层设置于对应的所述侧板和所述炉体之间。由于侧板与支撑架可拆卸,只需拆下侧板即可实现对应的第二保温层的安装或更换,方便快捷。
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