[发明专利]一种校正机械偏差的方法和系统有效
申请号: | 202110414441.6 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN113100802B | 公开(公告)日: | 2023-07-28 |
发明(设计)人: | 刘炎炎 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技股份有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03;A61B6/00;A61B5/00;G06N3/0464 |
代理公司: | 成都七星天知识产权代理有限公司 51253 | 代理人: | 袁春晓 |
地址: | 201807 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 校正 机械 偏差 方法 系统 | ||
1.一种校正机械偏差的方法,其特征在于,包括:
获取参考对象的第一投影数据,所述第一投影数据是基于待校正设备得到的投影数据,所述待校正设备包括机械偏差,所述第一投影数据包括对应所述机械偏差的偏差投影数据;
获取所述参考对象的第二投影数据,所述第二投影数据不包括所述偏差投影数据;
以所述第一投影数据和所述第二投影数据作为训练样本,对初始辅助模型进行训练得到辅助模型,所述辅助模型包括至少一个卷积层,所述至少一个卷积层中的每一个卷积层包括至少一个候选卷积核;
基于所述辅助模型的所述至少一个候选卷积核确定目标卷积核;
基于所述目标卷积核确定所述待校正设备的机械偏差信息,所述机械偏差信息用于校正所述待校正设备的所述机械偏差或所述偏差投影数据,其中,所述待校正设备包括射线源和探测器,所述探测器包括排列成探测单元矩阵的多个探测单元,所述多个探测单元包括与所述机械偏差相关的目标探测单元;
所述基于所述目标卷积核确定所述待校正设备的所述机械偏差信息包括:
确定所述目标卷积核中心元素与所述目标卷积核至少一个方向上的元素的第一差异;
确定所述目标探测单元与所述探测单元矩阵的至少一个方向上的探测单元的投影位置的第二差异,所述目标卷积核的至少一个方向与所述探测单元矩阵的至少一个方向对应;
基于所述第一差异和所述第二差异,确定所述目标探测单元在所述至少一个方向上的距离偏差,所述机械偏差信息包括所述目标探测单元在所述至少一个方向上的所述距离偏差。
2.如权利要求1所述的方法,以所述第一投影数据和所述第二投影数据作为训练样本,对初始辅助模型进行训练得到所述辅助模型包括:
根据所述第一投影数据、所述第二投影数据以及损失函数对所述初始辅助模型进行迭代更新,得到所述辅助模型;其中,所述损失函数包括根据中间卷积核的中心元素的值与预设值的差异确定的第一损失函数,所述中间卷积核根据所述初始辅助模型或更新模型的参数确定。
3.如权利要求1所述的方法,基于所述辅助模型的所述至少一个候选卷积核确定所述目标卷积核包括:
对所述至少一个候选卷积核执行卷积操作,得到所述目标卷积核。
4.如权利要求1所述的方法,基于所述辅助模型的所述至少一个候选卷积核确定所述目标卷积核包括:
确定输入矩阵,所述输入矩阵基于所述至少一个候选卷积核的大小确定;
将所述输入矩阵输入所述辅助模型,通过所述输入矩阵,基于所述至少一个候选卷积核,从所述辅助模型中提取所述目标卷积核。
5.如权利要求4所述的方法,所述输入矩阵的每一行中,只有一个元素为1,其它元素为0。
6.如权利要求1所述的方法,所述机械偏差包括所述目标探测单元的实际位置与理想位置的偏差,和/或所述射线源的实际位置与理想位置的偏差。
7.如权利要求1所述的方法,所述第二投影数据是基于标准设备得到的投影数据,所述标准设备的所述机械偏差已被校正或者所述标准设备不包括所述机械偏差。
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