[发明专利]一种高纯度碲化砷的制备方法有效
申请号: | 202110417021.3 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN113233430B | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 文崇斌;余芳;朱刘;童培云;曾成亮 | 申请(专利权)人: | 先导薄膜材料(广东)有限公司 |
主分类号: | C01B19/04 | 分类号: | C01B19/04 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 颜希文;黄诗彬 |
地址: | 511517 广东省清*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纯度 碲化砷 制备 方法 | ||
本发明公开了一种高纯度碲化砷的制备方法,包括如下步骤:装料准备:在反应炉中的反应容器中装入原料碲和原料砷;抽真空,使得所述反应炉中的气压降至5×10‑4Pa以下,随后向所述反应炉中通入惰性气体至达到第一气压;一次反应:维持所述第一气压,控制所述反应炉中的温度以5℃/min至10℃/min的速度升高至500℃至550℃,并封闭所述反应容器,保温保压30mins至60mins;二次反应:在所述一次反应步骤结束后,向所述反应炉中继续通入惰性气体,使气压升高至第二气压;控制所述反应炉中的温度以15℃/min至20℃/min的速度升高至850℃至900℃,保温保压90mins至120mins,随后可得碲化砷成品。这种高纯度碲化砷的制备方法可以高收率地获得高纯度碲化砷。
技术领域
本发明涉及碲化砷制备的技术领域,尤其涉及一种高纯度碲化砷的制备方法。
背景技术
碲化砷是一种单斜晶结构的化合物,在半导体、拓扑绝缘体和热电材料中具有非常重要的应用。现一般会采用碲和砷化合的方式来制备碲化砷。
碲的熔点为452℃,沸点为1390℃;但是砷在常压下呈固态,容易被氧化,升华点为613℃,3.58Mpa的条件下,其熔点为817℃,所以在将砷从常温开始加热时,砷会首先保持固态,随着温度的升高,会不经过熔化而直接气化,这一特性对砷和碲化合反应的顺利进行造成了很大的困难。
考虑到只有砷和碲在充分接触的前提下才能充分反应,若采用砷粉末和碲粉末混合的方法,可以保证接触的充分度,但是首先,砷极易在研磨成粉末的过程中被氧化,难以获得纯砷粉末;其次,就算有成品的砷粉末能用于与碲粉末混合,也难以持续有效地进行化合反应,这是因为化合反应为散热反应,在反应过程中温度将快速上升,直至攀升至613℃的砷的升华点,此时砷将大量升华变成气态,难以继续与碲粉末充分发生反应;而且升华产生的气态砷也容易逸出反应设备,不仅污染设备,还容易对人的身体健康造成危害。
上述等原因使得碲化砷制造困难,碲化砷的价格成本居高不下,影响相关产品的大量生产。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种高纯度碲化砷的制备方法,其可以高收率地获得高纯度碲化砷。
本发明的目的采用如下技术方案实现:
一种高纯度碲化砷的制备方法,包括如下步骤:
装料准备:在反应炉中的反应容器中装入原料碲和原料砷;抽真空,使得所述反应炉中的气压降至5×10-4Pa以下,随后向所述反应炉中通入惰性气体至达到第一气压;
一次反应:维持所述第一气压,控制所述反应炉中的温度以5℃/min至10℃/min的速度升高至500℃至550℃,并封闭所述反应容器,保温保压30mins至60mins;
二次反应:在所述一次反应步骤结束后,向所述反应炉中继续通入惰性气体,使气压升高至第二气压;控制所述反应炉中的温度以15℃/min至20℃/min的速度升高至850℃至900℃,保温保压90mins至120mins,随后可得碲化砷成品。
进一步地,所述反应容器采用液封的密封方式。
进一步地,采用固态氧化硼作为液封剂,所述固态氧化硼在所述一次反应步骤中熔化为液态,从而形成液封效果。
进一步地,所述反应容器为石墨坩埚,所述石墨坩埚包括筒体、液封槽和盖体,所述筒体的底部密封而上端开口,用于容置原料碲和原料砷;所述液封槽向上开口并环设于所述筒体的外周壁上;所述盖体开口向下匹配盖合入所述液封槽中。
进一步地,在所述装料准备步骤中,封闭所述反应容器包括以下步骤:
盖体开口向下盖合入所述液封槽中,再向所述液封槽中加入液封剂,从而形成液封效果。
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