[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置在审
| 申请号： | 202110417586.1 | 申请日： | 2021-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN113126376A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 赵立星;高锦成;刘泽旭;钱海蛟;汪涛;陈亮;陆文涛 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 张玲玲 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥市新*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：
透明衬底；
位于所述透明衬底上的透明介质层；
位于所述透明介质层上的第一电极层；所述透明介质层的折射率大于所述透明衬底的折射率，且小于所述第一电极层的折射率；
位于所述第一电极层上的像素电路层；
位于所述像素电路层上的第二电极层；所述第一电极层与所述第二电极层中的一个为公共电极层，另一个为像素电极层。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透明衬底的材质为玻璃，所述第一电极层的材质为氧化铟锡或者氧化铟锌，所述透明介质层的折射率的范围为1.6～1.8。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透明介质层的材料为无机材料或有机材料；
所述透明介质层的材料为无机材料时，所述透明介质层的材料包括氮氧化硅。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透明介质层的厚度范围为200埃～1000埃。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透明介质层在所述透明衬底上的正投影覆盖所述透明衬底。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括透光区与非透光区，所述透明介质层为图形化的膜层，所述透明介质层设置在所述透光区。
7.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
提供透明衬底，
在所述透明衬底上形成透明介质层；
在所述透明介质层上形成第一电极层；所述透明介质层的折射率大于所述透明衬底的折射率，且小于所述第一电极层的折射率；
在所述第一电极层上形成像素电路层；
在所述像素电路层上形成第二电极层；所述第一电极层与所述第二电极层中的一个为公共电极层，另一个为像素电极层。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述透明衬底的材质为玻璃，所述第一电极层的材质为氧化铟锡或者氧化铟锌，所述透明介质层的折射率的范围为1.6～1.8。
9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求1～6任一项所述的阵列基板、位于所述阵列基板上的对置基板及位于所述阵列基板与所述阵列基板之间的液晶层。
10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求9所述的显示面板。
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