[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置在审
| 申请号： | 202110417586.1 | 申请日： | 2021-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN113126376A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 赵立星;高锦成;刘泽旭;钱海蛟;汪涛;陈亮;陆文涛 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 张玲玲 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥市新*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置 | ||
本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置。所述阵列基板包括透明衬底、位于所述透明衬底上的透明介质层、位于所述透明介质层上的第一电极层、位于所述第一电极层上的像素电路层及位于所述像素电路层上的第二电极层。所述透明介质层的折射率大于所述透明衬底的折射率，且小于所述第一电极层的折射率。所述第一电极层与所述第二电极层中的一个为公共电极层，另一个为像素电极层。所述显示面板包括所述阵列基板。所述显示装置包括所述显示面板。
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置。
背景技术
ADS(Advanced-Super Dimensional Switching，高级超维场开关)型液晶显示面板具有视角广、色偏小等优势，是当今主流的显示面板。
但是现有的ADS型液晶显示面板的阵列基板的光线透过率较低，有待进行改进。
发明内容
根据本申请实施例的第一方面，提供了一种阵列基板。所述阵列基板包括：
透明衬底；
位于所述透明衬底上的透明介质层；
位于所述透明介质层上的第一电极层；所述透明介质层的折射率大于所述透明衬底的折射率，且小于所述第一电极层的折射率；
位于所述第一电极层上的像素电路层；
位于所述像素电路层上的第二电极层；所述第一电极层与所述第二电极层中的一个为公共电极层，另一个为像素电极层。
在一个实施例中，所述透明衬底的材质为玻璃，所述第一电极层的材质为氧化铟锡或者氧化铟锌，所述透明介质层的折射率的范围为1.6～1.8。
在一个实施例中，所述透明介质层的材料为无机材料或有机材料；
所述透明介质层的材料为无机材料时，所述透明介质层的材料包括氮氧化硅。
在一个实施例中，所述透明介质层的厚度范围为200埃～1000埃。
在一个实施例中，所述透明介质层在所述透明衬底上的正投影覆盖所述透明衬底。
在一个实施例中，所述阵列基板包括透光区与非透光区，所述透明介质层为图形化的膜层，所述透明介质层设置在所述透光区。
根据本申请实施例的第二方面，提供了一种阵列基板的制备方法，所述制备方法包括：
提供透明衬底，
在所述透明衬底上形成透明介质层；
在所述透明介质层上形成第一电极层；所述透明介质层的折射率大于所述透明衬底的折射率，且小于所述第一电极层的折射率；
在所述第一电极层上形成像素电路层；
在所述像素电路层上形成第二电极层；所述第一电极层与所述第二电极层中的一个为公共电极层，另一个为像素电极层。
在一个实施例中，所述透明衬底的材质为玻璃，所述第一电极层的材质为氧化铟锡或者氧化铟锌，所述透明介质层的折射率的范围为1.6～1.8。
根据本申请实施例的第三方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括上述的阵列基板、位于所述阵列基板上的对置基板及位于所述阵列基板与所述阵列基板之间的液晶层。
根据本申请实施例的第四方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示面板。
本申请实施例所达到的主要技术效果是：
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