[发明专利]一种回转式CVD碳材料表面均匀沉积装置

说明书

本发明公开了一种回转式CVD碳材料表面均匀沉积装置，包括控制箱，所述控制箱的一侧设置有输料箱，所述控制箱的上端定位连接有定位支脚，所述定位支脚的上端定位安装有分层式密封沉积箱与滑阀泵，所述分层式密封沉积箱的上端安装有加热箱。本发明所述的一种回转式CVD碳材料表面均匀沉积装置，设有回转式分层过滤装置、可拆式温控箱与分层式密封沉积箱，能够方便对料体中的杂质进行过滤清除，增加化学气相沉积的效果，输送更为快速，可以方便对加热温度进行控制，可以定位进行拆装更换，保证装置正常使用，燃烧更加稳定，还可以方便更好的进行沉积操作，采用多层，沉积效果好，密封性能优异，带来更好的使用前景。

技术领域

本发明涉及气相沉积领域，特别涉及一种回转式CVD碳材料表面均匀沉积装置。

背景技术

CVD碳材料表面均匀沉积装置是一种进行材料表面或基体等温CVD/CVI处理的支撑设备，在以碳氢气体（如C3H8等）为碳源的材料进行处理的时候，需要使用到化学气相沉积的方法，随着科技的不断发展，人们对于CVD碳材料表面均匀沉积装置的制造工艺要求也越来越高。

现有的CVD碳材料表面均匀沉积装置在使用时存在一定的弊端，首先，在进行使用的时候，不能很方便的对焦油、固体粉尘、有机气体等进行有效处理，不利于人们的使用，还有，在进行使用的时候不能很好的进行加热操作，控制较为麻烦，加热可能出现不稳定的情况，沉积与搬运的效果不佳，给人们的使用过程带来了一定的不利影响，为此，我们提出一种回转式CVD碳材料表面均匀沉积装置。

发明内容

（一）解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了一种回转式CVD碳材料表面均匀沉积装置，能够方便对料体中的杂质进行过滤清除，增加化学气相沉积的效果，输送更为快速，可以方便对加热温度进行控制，可以定位进行拆装更换，保证装置正常使用，燃烧更加稳定，还可以方便更好的进行沉积操作，采用多层，沉积效果好，密封性能优异，可以有效解决背景技术中的问题。

（二）技术方案

为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：一种回转式CVD碳材料表面均匀沉积装置，包括控制箱，所述控制箱的一侧设置有输料箱，所述控制箱的上端定位连接有定位支脚，所述定位支脚的上端定位安装有分层式密封沉积箱与滑阀泵，所述分层式密封沉积箱的上端安装有加热箱，所述加热箱的内部设置有可拆式温控箱，所述滑阀泵的上端安装有过滤箱，所述过滤箱的内部设置有回转式分层过滤装置，所述回转式分层过滤装置的一端设置有进料管，所述进料管的一端设置有进料输送管，所述加热箱的一端设置有输送管，所述输送管的一端设置有流量计。

作为一种优选的技术方案，所述回转式分层过滤装置包括回转扇叶、安装架、定位卡架、软碳毡层、软石墨毡层、硬质复合毡层、连接管，所述软石墨毡层位于硬质复合毡层的一侧，所述软碳毡层位于软石墨毡层的一侧，所述定位卡架位于软碳毡层的一侧，所述回转扇叶与安装架位于定位卡架的内侧，所述连接管位于硬质复合毡层的另一侧。

作为一种优选的技术方案，所述可拆式温控箱包括温控箱体、一号加热板、沉积滤网、底座、二号加热板、加热稳定片，所述底座位于温控箱体的底部，所述沉积滤网位于底座的内侧，所述一号加热板位于温控箱体的一侧，所述二号加热板位于温控箱体的另一侧，所述加热稳定片位于温控箱体的内侧。

作为一种优选的技术方案，所述分层式密封沉积箱包括沉积层、定位支块、密封板、沉积箱体、可拆沉积板、密封垫、定位卡块，所述定位支块与密封板位于沉积箱体的内侧，所述定位卡块位于可拆沉积板的外侧，所述密封垫位于可拆沉积板的外表面，所述沉积层位于可拆沉积板的底部外表面。

作为一种优选的技术方案，所述定位卡架、软碳毡层、软石墨毡层、硬质复合毡层之间设置有连接架，所述定位卡架、软碳毡层、软石墨毡层、硬质复合毡层之间通过连接架定位连接，所述安装架与定位卡架之间设置有固定块，所述定位卡架的内侧通过固定块与安装架的外侧固定连接，所述回转扇叶与安装架之间设置有轴承，所述回转扇叶的内壁通过轴承与安装架的内侧活动连接。