[发明专利]一种用于匀光的自适应光束整形装置在审
| 申请号： | 202110418354.8 | 申请日： | 2021-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN113189804A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 黄大杰;范薇;程贺;杜彤耀;邢智博 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 自适应 光束 整形 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于匀光的自适应光束整形装置，特征在于该装置包括半波片(1)、起偏器(2)、光敏响应器(3)和检偏器(4)，所述的光敏响应器(3)的结构沿入射光的入射方向依次是第一基板(3a)、第一透明导电膜(3b)、光敏材料(3c)、液晶材料(3d)、第二透明导电膜(3e)和第二基板(3f)，所述的第一透明导电膜(3b)和第二透明导电膜(3e)之间连接一台交流电源(3g)，所述的光敏材料(3c)的电导率随入射光光强的增大而增大，所述的液晶材料(3d)的折射率随入射光光强的变化而变化。
2.根据权利要求1所述的自适应光束整形装置，其特征在于所述的光敏材料(3c)的厚度为10um-500um。
3.根据权利要求1所述的自适应光束整形装置，其特征在于所述的液晶材料(3d)的厚度为10um-100um。
4.根据权利要求1所述的自适应光束整形装置，其特征在于所述的交流电源(3g)的电压大小有效值范围为5-50V，驱动频率范围为10-1000Hz。
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