[发明专利]一种基于浮法镀膜联线系统

权利要求书

1.一种基于浮法镀膜联线系统，位于漂浮在锡槽内的基体上方，其特征在于，包括气体运输模块、气体反应模块、废气排出模块，所述气体运输模块按照气体的移动方向依次包括通气设备、纯化器、流量调节装置、蒸发升华器、混合炉，所述气体反应模块按照气体的移动方向依次包括反应炉、真空泵，所述废气排出模块包括废气处理器；所述基体上方设置有沉积区，所述沉积区的温度范围为600℃~780℃。

2.根据权利要求1所述的一种基于浮法镀膜联线系统，其特征在于，锡槽的入口温度为1450℃~1550℃而出口温度在20℃与室温之间，所述基体的上料口温度为1350℃~1400℃。

3.根据权利要求1所述的一种基于浮法镀膜联线系统，其特征在于，所述基体为玻璃板，其运动速度为380～520m/h。

4.根据权利要求1所述的一种基于浮法镀膜联线系统，其特征在于，其镀膜过程包括以下步骤：

S1输送气体；将反应气体通过通气设备向沉积区输送；

S2分子转移；反应气体由沉积区向基体表面转移；

S3分子吸附；反应分子和部分非反应物分子吸附到基体表面；

S4生成薄膜；吸附相分子之间、吸附相分子和气态反应物之间在基体表面附近发生化学反应，形成固态生成物粒子和气态生成物分子，固态生成物粒子在基体表面扩散，生成固态薄膜；

S5气态分子表面解析并扩散；生成的气态分子在基体表面解析并扩散离开；

S6排放废气；气态生成物分子和未反应的气体均在沉积区被排放出去，由废气处理器进行处理。

5.根据权利要求1所述的一种基于浮法镀膜联线系统，其特征在于，导入的气体为SiH₄。

6.根据权利要求1所述的一种基于浮法镀膜联线系统，其特征在于，在室温高于20℃的情况下，锡槽的出口温度为室温，在锡槽出料后将所述基体在室温条件下静置1~3h；在室温低于20℃的情况下，锡槽的出口温度范围为室温~20℃内，在锡槽出料时将所述基体在室温条件下静置0.5~2h；玻璃制造厂房的室温维持在12℃以上。

7.根据权利要求1所述的一种基于浮法镀膜联线系统，其特征在于，在退火窑中，氧气体积为总气体的25％～50％。