[发明专利]一种微透镜阵列基板、3D显示装置及其制备方法

权利要求书

1.一种微透镜阵列基板，其特征在于，包括：基板(1)，所述基板(1)上间隔设置有多个透镜(2)，每相邻两个所述透镜(2)之间均设有纳米吸收体 (6)，每个纳米吸收体(6)均包括：从下至上依次层叠设置的金属基底层(3)、介质中间层(4)以及金属纳米结构层(5)，所述金属纳米结构层(5)由耐高温材料制成；所述介质中间层(4)和金属纳米结构层(5)的尺寸相等，且均小于所述金属基底层(3)的尺寸，所述介质中间层(4)和金属纳米结构层(5)均为圆柱体或长方体的结构设置；

多个所述透镜(2)的外侧设有低折平坦层(7)；

其中，多个纳米吸收体(6)作为微透镜阵列基板的遮光层，折射率在1.5～1.8；所述低折平坦层(7)的膜厚为5～30μm，折射率在1.3～1.6；所述透镜(2)和所述低折平坦层(7)的折射率差大于0.1；

所述金属纳米结构层(5)由高折射率材料制成；

所述金属纳米结构层(5)设置为钛金属；

所述金属基底层(3)设置为铝金属，所述介质中间层(4)设置为二氧化硅；

所述金属纳米结构层(5)的高度为20nm；

所述介质中间层(4)的高度为80nm，且所述介质中间层(4)的宽度为190nm；

所述金属基底层(3)的高度为200nm，且所述金属基底层(3)的宽度为250nm。

2.根据权利要求1所述的微透镜阵列基板，其特征在于，所述平坦层外侧设有保护层(8)。

3.一种3D显示装置，其特征在于，包括：显示屏以及如权利要求1-2中任一项所述的微透镜阵列基板，所述微透镜阵列基板设置于所述显示屏的出光面一侧。

4.一种微透镜阵列基板的制备方法，应用于如权利要求1-2任一项所述的微透镜阵列基板，其特征在于，所述方法包括：

提供一个基板(1)；

制备出多个纳米吸收体 (6)；

将多个所述纳米吸收体 (6)间隔设置于所述基板(1)上；

在每相邻两个所述纳米吸收体 (6)之间均形成有透镜(2)。

5.根据权利要求4所述的微透镜阵列基板的制备方法，其特征在于，所述制备出多个纳米吸收体 (6)的步骤中，所述方法具体包括：

在所述基板(1)上沿着出光方向依次沉积有金属基底层(3)、介质中间层(4)以及金属纳米结构层(5)；

在所述金属纳米结构层(5)的外侧旋涂一层纳米压印胶（10）；

将所述纳米压印胶（10）制备成作为掩膜板的压印胶纳米结构；

按照所述压印胶纳米结构对所述金属纳米结构层(5)以及介质中间层(4)进行刻蚀，以形成纳米吸收体 (6)。

6.根据权利要求5所述的微透镜阵列基板的制备方法，其特征在于，所述金属基底层(3)设置为高度为200nm的铝金属；所述介质中间层(4)设置为高度为80nm的二氧化硅；所述金属纳米结构层(5)设置为高度为20 nm的钛金属。