[发明专利]一种微透镜阵列基板、3D显示装置及其制备方法

说明书

本发明涉及3D显示技术领域，具体涉及一种微透镜阵列基板、3D显示装置及其制备方法。该微透镜阵列基板包括：基板，所述基板上间隔设置有多个透镜，每相邻两个所述透镜之间均设有纳米吸收体阵列结构，每个纳米吸收体均包括：从下至上依次层叠设置的金属基底层、介质中间层以及金属纳米结构层，所述金属纳米结构层由耐高温材料制成；综上所述，本申请采用耐高温的纳米吸收体阵列结构作为遮光层，可以有效避免在进行透镜制备过程中出现遮光层熔化的现象，保证透镜阵列的透过率，提高显示效果。

技术领域

本发明涉及3D显示技术领域，具体涉及一种微透镜阵列基板、3D显示装置及其制备方法。

背景技术

在液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)的显示面板中，BM(Black Matrix,黑矩阵)图案通常设置于彩膜(Color Filter,CF)基板一侧，主要起到遮光作用，防止背光在透过液晶层和红、绿、蓝三种色阻图案后产生混光现象，以避免显示异常；BM(BlackMatrix,黑矩阵)图案本身具有反光效果，能够对入射到其表面的光进行反射；目前，黑矩阵主要成分为黑色矩阵聚合物。

如图1所示，基于现有技术中微透镜基板制作的工艺路线可以看出，首先是在基板上制作黑色矩阵聚合物(BM)，之后再进行透镜制备，但是由于透镜制备往往需要在高温条件下进行，例如采用热回流技术，这将导致已经预先制备完成的黑色矩阵聚合物的边缘部分熔化并向两边流动，具体请参照如图2所示的扫描电镜图，从而降低透镜阵列的透过率，影响显示效果。

发明内容

本申请的目的在于提供一种微透镜阵列基板、3D显示装置及其制备方法，以解决现有技术中由黑色矩阵聚合物构成的遮光层在高温环境下容易融化的技术问题。

(一)技术方案

为实现上述目的，本发明第一方面提供了一种微透镜阵列基板，包括：基板，所述基板上间隔设置有多个透镜，每相邻两个所述透镜之间均设有纳米吸收体阵列结构，每个纳米吸收体均包括：从下至上依次层叠设置的金属基底层、介质中间层以及金属纳米结构层，所述金属纳米结构层由耐高温材料制成。

可选的，所述金属纳米结构层由高折射率材料制成。

可选的，所述金属纳米结构层设置为钛金属。

可选的，所述金属基底层设置为铝金属，所述介质中间层设置为二氧化硅。

可选的，所述金属纳米结构层的尺寸与所述介质中间层的尺寸相等，且均小于所述金属基底层的尺寸。

可选的，所述金属纳米结构层的高度为20nm。

可选的，所述介质中间层的高度为80nm，且所述介质中间层的宽度为190nm。

可选的，所述金属基底层的高度为200nm，且所述金属基底层的宽度为250nm。

可选的，多个所述透镜的外侧设有低折平坦层。

可选的，所述平坦层外侧设有保护层。

为实现上述目的，本发明第二方面提供了一种3D显示装置，包括：显示屏以及如前述中任一项所述的微透镜阵列基板，所述微透镜阵列基板设置于所述显示屏的出光面一侧。

为实现上述目的，本发明第三方面提供了一种微透镜阵列基板的制备方法，所述方法包括：

提供一个基板；

制备出多个纳米吸收体阵列结构；

将多个所述纳米吸收体阵列结构间隔设置于所述基板上；

在每相邻两个所述纳米吸收体阵列结构之间均形成有透镜。

可选的，所述制备出纳米吸收体阵列结构的步骤中，所述方法具体包括：