[发明专利]极紫外光刻机物料传递及污染控制系统、方法

说明书

本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种极紫外光刻机物料传递及污染控制系统，该极紫外光刻机中，大气腔的第一通气管上设置有第一调节阀，载片腔的第二通气管上设置有第二调节阀，传输腔的第三通气管上设置有第三调节阀，工艺腔的第四通气管上设置有第四调节阀，极紫外光刻机的控制器能够控制真空泵组、载片腔与大气腔之间的大气物料阀、传输腔与载片腔之间的第一真空物料阀以及工艺腔与传输腔之间的第二真空物料阀开启或关闭，同时控制第一调节阀、第二调节阀、第三调节阀和第四调节阀的开度，使大气腔、载片腔、传输腔和工艺腔内的污染性气体分压依次减小，在保证物料传输的同时，能够严格控制污染性气体从环境向工艺腔的传输。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种极紫外光刻机物料传递及污染控制系统、方法。

背景技术

在工业生产领域中，很多工艺是在真空环境下进行的，需要在大气环境和真空环境之间进行物料的传递，包括待加工物品从大气环境传递到真空环境以及已加工完成的物品从真空环境传递到大气环境。例如：真空镀膜工艺、离子束焊接工艺、极紫外光刻工艺、离子束光刻工艺、电子束光刻工艺等，这些工艺均需要在真空环境下进行。

尤其是极紫外光刻工艺，极紫外光刻机的真空系统包含多个不同要求的工艺腔室，需要时刻对各真空腔内的污染性气体含量进行严格监测和控制，如O₂和CxHy等气体的成分和分压。因此要对其物料(如硅片)传递过程进行严格的污染控制，以免破坏极紫外光刻机内部清洁的真空环境。

综上所述，现有的极紫外光刻机中需要对其物料传递过程进行严格的污染控制。

发明内容

本发明的目的是至少解决现有的极紫外光刻机中需要对其物料传递过程进行严格的污染控制的问题。该目的是通过以下技术方案实现的：

本发明的第一方面提出了一种极紫外光刻机物料传递及污染控制系统，其中，包括：物料盒，所述物料盒内设置有多个物料；大气腔，所述大气腔内设置有第一传输单元；载片腔，所述载片腔内设置有物料支架，所述第一传输单元的传输路径为所述物料盒至所述物料支架；传输腔，所述传输腔内设置有第二传输单元；工艺腔，所述工艺腔内设置有物料台，所述第二传输单元的传输路径为所述物料支架至所述物料台；真空泵组，所述真空泵组通过真空管道与所述载片腔、所述传输腔和所述工艺腔连通；其中，

所述大气腔通过第一通气管通入气体，所述第一通气管上设置有第一调节阀；

所述载片腔与所述大气腔通过大气物料阀连通，所述载片腔通过第二通气管通入气体，所述第二通气管上设置有第二调节阀；

所述传输腔与所述载片腔通过第一真空物料阀连通，所述传输腔通过第三通气管通入气体，所述第三通气管上设置有第三调节阀；

所述工艺腔与所述传输腔通过第二真空物料阀连通，所述工艺腔通过第四通气管通入气体，所述第四通气管上设置有第四调节阀；

所述极紫外光刻机物料传递及污染控制系统还包括控制器，所述控制器能够控制所述真空泵组、大气物料阀、第一真空物料阀和第二真空物料阀开启或关闭，同时控制所述第一调节阀、第二调节阀、第三调节阀和第四调节阀的开度。

根据本发明的极紫外光刻机物料传递及污染控制系统中，控制器能够控制真空泵组、大气物料阀、第一真空物料阀和第二真空物料阀开启或关闭，同时控制所述第一调节阀、第二调节阀、第三调节阀和第四调节阀的开度，使大气腔、载片腔、传输腔和工艺腔内的污染性气体分压依次减小，在保证物料传输的同时，能够严格控制污染性气体从环境向工艺腔的传输，工艺腔内部的污染性气体远小于环境中的污染性气体。

另外，根据本发明的极紫外光刻机物料传递及污染控制系统，还可具有如下附加的技术特征：

在本发明的一些实施例中，所述第一传输单元为大气机械臂，所述载片腔与所述大气腔连通时，所述大气机械臂能够将所述物料盒内的物料传递至所述物料支架上。