[发明专利]一种阵列基板制备方法、阵列基板及显示面板

说明书

本发明涉及液晶显示的技术领域，提供了一种阵列基板制备方法、阵列基板及显示面板，其中阵列基板制备方法包括：在第一基板上设置第一金属层；在第一金属层上设置半导体层；在半导体层上设置第二金属层；在第二金属层上设置第一保护层；在第一保护层上设置色阻层；对色阻层进行等离子体处理；在色阻层上设置第二保护层；通过上述技术方案，在设置色阻层后，对色阻层进行离子体处理，有利于将色阻层存放于第一保护层上，避免气泡的产生；同时色阻层置于第一保护层和第二保护层之间，提高了色阻层的可靠性，因此可以减小色阻层的厚度，同样可以减小气泡的产生。

技术领域

本发明涉及显示屏的技术领域，更具体地说，是涉及一种阵列基板制备方法、阵列基板及显示面板。

背景技术

COA(color filter on array，阵列上彩色滤光片)技术是将CF(color filter，彩色滤光层)制备在TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板上，此技术能增加面板开口率，提高透过率，减少寄生电容，同时可应用于高频、高解析度、超大尺寸的产品，提升产品品质。

一般COA产品为求高NTSC色域表现(NTSC，National TelevisionStandardsCommittee，国家电视标准委员会)，只能选择将RGB(色阻材料)设计为厚膜结构，但是在生产工艺上会大幅增加色阻的消耗量，增加生产成本以及材料成本。

然而，解决上述厚膜结构RGB(色阻材料)设计的问题可以采用RGB薄型色阻，可以达到高NTSC色域要求的同时更大幅减少了色阻材料的使用量，但是RGB薄型色阻会带来可靠性降低的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种阵列基板制备方法、阵列基板及显示面板，以解决现有技术中存在的显示面板采用RGB薄型色阻可靠性降低的技术问题。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是一种阵列基板制备方法，包括：

在第一基板上设置第一金属层；

在第一金属层上设置半导体层；

在半导体层上设置第二金属层；

在第二金属层上设置第一保护层；

在第一保护层上设置色阻层；

对色阻层进行等离子体处理；

在色阻层上设置第二保护层。

具体地，本实施例提供的阵列基板制备方法用于生产制造COA-LCD显示面板，该COA-LCD显示面板的TFT侧结构包括依次层叠的第一基板、第一金属层、半导体层、第二金属层、第一保护层、色阻层、第二保护层和第一导电薄膜层；CF侧结构包括依次层叠的第二基板、黑色遮光层、第二导电薄膜层和隔垫层；然后再将TFT侧结构与CF侧结构贴合，再在TFT侧结构与CF侧结构之间注入液晶，再安装驱动，最后安装背光模组，形成COA-LCD显示面板。

需要进一步解释的是，等离子体处理是通过利用对气体施加足够的能量使之离化成为等离子状态，利用这些活性组分的性质来处理色阻层，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等的目的。等离子体装置包括如下构成：等离子体模块，其由阴极、阳极和外壳构成；气体供应及控制装置，向上述大气压等离子体模块供应气体，并且控制气体供应量；排气装置，排出上述等离子体模块内的气体；冷却装置，冷却上述等离子体模块；以及电源装置，向上述等离子体模块供应电源。