[发明专利]一种检测TFT清洗线MURA的方法在审

专利信息
申请号: 202110430833.1 申请日: 2021-04-21
公开(公告)号: CN113281923A 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 曾纯;徐阳;李伟界 申请(专利权)人: 信利(惠州)智能显示有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 唐超
地址: 516029 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 检测 tft 清洗 mura 方法
【说明书】:

发明涉及一种检测TFT清洗线MURA的方法,包括如下步骤:S1、使用水蒸气喷头向完成清洗流程的玻璃基板表面喷水蒸气,所述水蒸气喷头所喷出的水蒸气覆盖所述玻璃基板的表面;S2、使用能发出绿色光的钠灯作为唯一光源,使用所述钠灯照射所述玻璃基板的表面,检查所述玻璃基板的表面是否存在光散射部分。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种检测TFT清洗线MURA的方法。

背景技术

目前,液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)大部分为背光型液晶显示器,背光型液晶显示器包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子,两片玻璃基板中间有许多垂直和水平的细小电线,通过控制通电从而控制液晶分子偏转,将背光模组的光线折射出来产生画面。

液晶显示面板由彩膜(CF,Color Filter)基板、薄膜晶体管(TFT,Thin FilmTransistor)基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC,Liquid Crystal)及密封胶框(Sealant)组成。在TFT基板的生产过程包括化学气相沉积(CVD)、微影(Photo)、蚀刻(Etch)、溅镀(Sputter)等,每一道制程步骤都存在潜在性的污染源,可导致缺陷(Defect)的生成。污染源包括粒子(Particles)、无机物金属离子(Metal Ions)、有机物杂质(Organic Impurity)、原生氧化薄膜(Native Oxide)和水痕(Water Mark)等,因此玻璃基板的清洗是TFT基板的生产制程中重复使用频率最高的步骤,在每一道制程步骤之前都必须将玻璃基板表面清洗干净,以去除污染物。

玻璃基板的清洗流程中通常包括使用水溶液进行清洗的制程以及在水溶液清洗之后使用干燥装置将玻璃基板吹干的制程,由于玻璃基板的清洗流程中不会在玻璃基板上增加膜层,因此清洗流程中对玻璃基板造成的影响无法通过人眼观察检测到,若玻璃基板在清洗流程中受到损害或污染,会在玻璃基板上留下肉眼不可见的MURA或其它不良。例如,在清洗流程中,玻璃基板在水溶液清洗过程中因为清洗方式不当导致未彻底清除玻璃基板上的残留药液,未清洗掉的药液残留在玻璃基板上对玻璃基板造成损伤和污染,该玻璃基板形成的显示面板在显示画面时极易出现水渍状的亮斑即白MURA,从而降低了显示效果。又例如,在清洗流程中,玻璃基板在水溶液清洗之后的干燥过程中,由于玻璃基板为水平放置,玻璃基板上残留的清洗水由于受到毛细力的作用,总是趋向于形成弯月状的水块附着在玻璃基板表面,水块的两侧容易回流从而在玻璃基板表面形成水渍,造成清洗不良的情况,该玻璃基板形成的显示面板在显示画面时极易出现条状MURA。

因此,需要定期对清洗玻璃基板的清洗线进行检测,防止玻璃基板在清洗流程中受到损害或污染,现有的检测技术方案为:使用白玻璃基板,在白玻璃基板表面溅射铝膜层,然后再经过清洗线的所有清洗流程,最后通过人眼观察检测MURA缺陷。但该技术方案存在的技术问题是:完成检测的白玻璃基板要进行报废处理,因此每检测一次都要消耗白玻璃基板和铝靶材。

发明内容

针对现有技术中存在的技术问题,本发明提供一种检测TFT清洗线MURA的方法,本发明提供的检测办法可以替代现有的检测清洗线的技术方案。

为实现上述目的,本发明使用如下技术方案:一种检测TFT清洗线MURA的方法,包括如下步骤:

步骤1,提供一玻璃基板,玻璃基板进入清洗线,首先清洗线上的清洗装置使用水溶液对玻璃基板进行清洗,使用水溶液清洗玻璃基板的目的是去除基板上的污染物;

步骤2,玻璃基板完成水溶液清洗后,清洗线上的干燥装置对玻璃基板上残留的清洗水进行清除和干燥;

步骤3,使用水蒸气喷头向干燥后的玻璃基板的表面喷出的水蒸气,水蒸气喷头所喷出的水蒸气覆盖玻璃基板的表面;

步骤4,使用能发出绿色光的钠灯作为唯一光源,使用该钠灯照射玻璃基板的表面;

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