[发明专利]一种双旋转补偿器型Mueller矩阵椭偏仪的补偿器同步旋转结构有效
申请号: | 202110441719.9 | 申请日: | 2021-04-23 |
公开(公告)号: | CN113188457B | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 张瑞;林聪;薛鹏;张钦圭;尚琰;徐跃;刘政杰 | 申请(专利权)人: | 中北大学 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01J4/00 |
代理公司: | 太原荣信德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14119 | 代理人: | 杨凯;连慧敏 |
地址: | 030051 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 旋转 补偿 mueller 矩阵 椭偏仪 同步 结构 | ||
本发明属于补偿器同步旋转结构技术领域,具体涉及一种双旋转补偿器型Mueller矩阵椭偏仪的补偿器同步旋转结构,小同步齿轮、大同步齿轮与伺服电机轴伸端同轴固定连接,小同步齿轮通过第一齿形皮带与第一锥齿轮同步齿轮啮合,第一锥齿轮同步齿轮与第一直齿锥齿轮主动轮同轴固定连接,第一直齿锥齿轮主动轮与第一直齿锥齿轮从动轮啮合,大同步齿轮通过第二齿形皮带与第二锥齿轮同步齿轮连接,第二锥齿轮同步齿轮与第二直齿锥齿轮主动轮同轴固定连接,第二直齿锥齿轮主动轮与第二直齿锥齿轮从动轮啮合。本发明通过一个伺服电机带动起偏臂和检偏臂上的两个相位补偿器以不同的速度比同步旋转,并且单伺服电机的控制方式和最终信号的触发采集也更为简洁。
技术领域
本发明属于补偿器同步旋转结构技术领域,具体涉及一种双旋转补偿器型Mueller矩阵椭偏仪的补偿器同步旋转结构。
背景技术
随着电子产品向小型化、集成化方向发展,近几年来,纳米薄膜越来越多地出现在科研和工业产品中,在军事设备中有广泛的应用前景。因此,对薄膜表征技术在分辨率和精度上提出了要求。薄膜厚度的测量方法可分为光学法和非光学法两类。非光学法有电容法、力学显微镜测厚法、触针法、比重法、定量法、定量化学分析法等。非光学法只适用于较厚的膜,对于很薄的膜,虽然有一些精密的测量方法,但测量工序繁杂,有时还需在测量前对薄膜进行处理。光学法主要有红外光谱分析测厚法、射线测厚法、激光测厚法、光干涉法、椭偏测厚法等。
椭偏测厚法是通过同时测量反射光束的幅值衰减和相位改变来求得被测样品的光学常数,椭偏仪就是通过检测光的偏振特性进行测量的一种科学仪器,Mueller矩阵椭偏仪是一种新型的椭偏仪,一次测量能够得Mueller矩阵的16个测量参数,从而获取更多样品信息,双旋转补偿器型Mueller矩阵椭偏仪检偏臂和起偏臂上各有一个稳定旋转的补偿器,光线从光源发出经过起偏臂,再经过样品,反射回检偏臂,在检偏臂上的旋转相位补偿器稳定旋转,经过位补偿器的出射光的相对相位差会发生连续周期性变化,这样就可以通过旋转补偿器来控制相位变化,实现相位的调制。
现在大多数双旋转补偿器型Mueller矩阵椭偏仪的相位补偿器的旋转方法都采用双电机形式,起偏臂和检偏臂的相位补偿器上个安装一个电机带动相位补偿器旋转,这样的方法确实可行,但是想要同步两个电机的速度比较复杂,而且存在误差,并且对最后信号的触发采集也造成了困难。
发明内容
针对上述现在大多数双旋转补偿器型Mueller矩阵椭偏仪的相位补偿器的旋转同步两个电机的速度比较复杂,而且存在误差,并且对最后信号的触发采集也造成了困难的技术问题,本发明提供了一种成本低、效果好、误差小的双旋转补偿器型Mueller矩阵椭偏仪的补偿器同步旋转结构。
为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:
一种双旋转补偿器型Mueller矩阵椭偏仪的补偿器同步旋转结构,包括小同步齿轮、大同步齿轮、伺服电机轴伸端、第一齿形皮带、第一锥齿轮同步齿轮、第一直齿锥齿轮主动轮、第一直齿锥齿轮从动轮、第二齿形皮带、第二锥齿轮同步齿轮、第二直齿锥齿轮主动轮、第二直齿锥齿轮从动轮,所述小同步齿轮、大同步齿轮与伺服电机轴伸端同轴固定连接,所述小同步齿轮通过第一齿形皮带与第一锥齿轮同步齿轮啮合,所述第一锥齿轮同步齿轮与第一直齿锥齿轮主动轮同轴固定连接,所述第一直齿锥齿轮主动轮与第一直齿锥齿轮从动轮啮合,所述大同步齿轮通过第二齿形皮带与第二锥齿轮同步齿轮连接,所述第二锥齿轮同步齿轮与第二直齿锥齿轮主动轮同轴固定连接,所述第二直齿锥齿轮主动轮与第二直齿锥齿轮从动轮啮合。
所述第一直齿锥齿轮主动轮通过第一法兰盘安装在第一直角铝制结构板上,所述第一直齿锥齿轮从动轮通过第二法兰盘安装在第一直角铝制结构板上。
所述第二直齿锥齿轮主动轮通过第三法兰盘安装在第二直角铝制结构板上,所述第二直齿锥齿轮从动轮通过第四法兰盘安装在第二直角铝制结构板上。
所述小同步齿轮与大同步齿轮外径比为3:5。
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