[发明专利]一种微透镜结构及其制备方法、显示器件在审

专利信息
申请号: 202110443688.0 申请日: 2021-04-23
公开(公告)号: CN113178535A 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 郭康;宋梦亚;李多辉;谷新 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;G02F1/1335;G03F7/00
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 透镜 结构 及其 制备 方法 显示 器件
【说明书】:

一种微透镜结构及其制备方法、显示器件,所述微透镜结构包括至少一个微透镜,所述微透镜结构的制备方法包括:根据待制备的微透镜的目标拱高确定压印工艺参数,所述压印工艺参数与压印时微透镜模板的填充程度相关;在基板上涂覆压印胶材,使用微透镜模板基于所述压印工艺参数进行纳米压印,形成所述微透镜结构。本公开实施例提供的方案,通过改变压印工艺参数改变填充程度,获得不同拱高的微透镜,实现方便,成本低,产品开发周期短。

技术领域

本公开实施例涉及但不限于显示技术,尤指一种微透镜结构及其制备方法、显示器件。

背景技术

随着工业技术的发展,对光学器件微型化的需求不断加大,微透镜应运而生。微透镜通常是指孔径从微米尺度到毫米尺度的透镜,当一定数量的微透镜按照一定的规律排列,或均匀排列,或不均匀排列,就组成了微透镜阵列,相比传统的透镜,微透镜及其阵列具有体积小、重量轻、功耗小等优点,微透镜阵列可以实现传统光学器件不具备的光学特性,利用该特性实现一些特殊的功能,例如在显示领域,使用微透镜阵列,可以实现裸眼3D。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

本公开实施例提供了一种微透镜结构及其制备方法、显示器件。

一方面,本公开实施例提供了一种微透镜结构制备方法,所述微透镜结构包括至少一个微透镜,所述微透镜结构制备方法包括:

根据待制备的微透镜的目标拱高确定压印工艺参数,所述压印工艺参数与压印时微透镜模板的填充程度相关;

在基板上涂覆压印胶材,使用微透镜模板基于所述压印工艺参数进行纳米压印,形成所述微透镜结构。

在一示例性实施例中,所述压印胶材的粘度支持不同的填充程度。

在一示例性实施例中,所述压印胶材的粘度为10000厘泊至100000厘泊。

在一示例性实施例中,所述压印工艺参数包括加载在所述微透镜模板上的下压力,所述下压力与所述微透镜的目标拱高正相关。

在一示例性实施例中,所述下压力包括0.01Mpa至0.5Mpa。

在一示例性实施例中,所述压印工艺参数包括基板温度,所述基板温度与所述微透镜的目标拱高正相关。

在一示例性实施例中,所述基板温度包括20度至120度。

又一方面,本公开实施例提供一种微透镜结构,所述微透镜结构使用上述微透镜结构制备方法制备。

在一示例性实施例中,所述微透镜的口径为10微米至500微米,所述微透镜的拱高为5微米至50微米。

本公开实施例提供一种显示器件,包括上述微透镜结构。

本公开实施例包括一种微透镜结构制备方法,所述微透镜结构包括至少一个微透镜,所述微透镜结构制备方法包括:根据待制备的微透镜的目标拱高确定压印工艺参数,所述压印工艺参数与压印时微透镜模板的填充程度相关;在基板上涂覆压印胶材,使用微透镜模板基于所述压印工艺参数进行纳米压印,形成所述微透镜结构。本实施例提供的方案,可以通过改变压印工艺参数,在不改变微透镜模板的情况下,改变微透镜模板的填充程度,制备不同拱高的微透镜,成本低,开发周期短,且实现方便,对已有工艺改动极小,可以兼容已有设备。

本公开的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本公开而了解。本公开的目的和其他优点可通过在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

在阅读并理解了附图和详细描述后,可以明白其他方面。

附图说明

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