[发明专利]一种温敏型细胞培养基材及其制备方法

权利要求书

1.一种温敏型细胞培养基材，其特征在于，包括：

基材本体；

温敏液层，涂布于所述基材本体的表面，所述温敏液层的厚度为200μm-1000μm。

2.如权利要求1所述的温敏型细胞培养基材，其特征在于：

所述基材本体由聚苯乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯中的一种制成。

3.如权利要求1所述的温敏型细胞培养基材，其特征在于：

所述温敏液层包括N-异丙基丙烯酰胺、N-异丙基甲基丙烯酰胺、N-丙基丙烯酰胺以及N-丙基-2-甲基丙烯酰胺中的至少一种。

4.如权利要求1所述的温敏型细胞培养基材，其特征在于：

所述基材本体的厚度为1mm-3.5mm。

5.如权利要求1所述的温敏型细胞培养基材，其特征在于：

所述基材本体为圆形或方形。

6.如权利要求1所述的温敏型细胞培养基材，其特征在于：

所述基材本体的表面具有若干裁切线。

7.一种温敏型细胞培养基材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、将基材本体固定于涂布机上；

S2、通过所述涂布机将温敏液均匀地涂布于所述基材本体的表面，以形成温敏液层；

S3、测量所述温敏液层的厚度，若所述温敏液层的厚度小于200μm，重复S2步骤。

8.如权利要求7所述的温敏型细胞培养基材的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤：

S4、将所述基材本体裁切成多个预设形状的片状体。

9.如权利要求7所述的温敏型细胞培养基材，其特征在于，在S1步骤前，还包括如下步骤：

S0、将所述基材本体进行等离子处理。