[发明专利]一种磁极回转的圆形平面磁控溅射靶

说明书

本发明提供一种磁极回转的圆形平面磁控溅射靶，包括：靶基座，其为中空的圆柱形结构；磁极回转系统，其设置靶基座上，并与靶基座可活动的连接；所述磁极回转系统为可旋转的结构；磁极，其设置在磁极回转系统上，并被磁极回转系统带动旋转。本发明将多个磁极沿磁极回转系统的径向均布放置，使得磁感应线沿靶材周向排布，并且本发明中磁极可以回转，从而防止靶材表面形成明显的刻蚀沟槽，提高了靶材的利用率与溅射速率，从而解决现有技术中的不足。

技术领域

本发明具体涉及一种磁极回转的圆形平面磁控溅射靶。

背景技术

对比文件：中国发明专利公开说明书CN102719799A，公开日20121010，公开了一种旋转磁控溅射靶及相应的磁控溅射装置，该旋转磁控溅射靶包括圆柱形靶材、极靴以及磁控管，该磁控管包括设置在磁控管中部的第一磁极以及设置在磁控管两侧的第二磁极，第一磁极和第二磁极的极性相反。

对比文件中的旋转磁控溅射靶中，磁场沿着旋转圆柱体周向的圆柱面上分布，属于旋转圆柱靶。但在实际应用中，很多地方需要用到圆形平面磁控溅射靶才能满足生产需求。

传统的圆形平面磁控溅射靶采用中间圆柱加外围环形磁铁的磁场布局。在这种磁场布局下，靶材表面在溅射过程中形成刻蚀沟槽，导致整个圆形平面靶材仅刻蚀沟槽中的靶材被溅射，因此传统圆形平面磁控溅射靶的靶材利用率低。

因此，需要一种磁极回转的圆形平面磁控溅射靶，能够解决现有技术中仅刻蚀沟槽中的靶材被溅射导致靶材利用率低的问题。

发明内容

本发明提供一种磁极回转的圆形平面磁控溅射靶，具有磁极可以回转的特点，从而防止靶材表面形成明显的刻蚀沟槽，提高了靶材的利用率，从而解决现有技术中的不足。

一种磁极回转的圆形平面磁控溅射靶，包括：

靶基座，其为中空的圆柱形结构；

磁极回转系统，其设置靶基座上，并与靶基座可活动的连接；所述磁极回转系统为可旋转的结构；

磁极，其设置在磁极回转系统上，并被磁极回转系统带动旋转。

采用这样的结构，本发明将多个磁极沿磁极回转系统的径向均布放置，使得磁感应线沿靶材周向排布，并且磁极可以回转；当本发明工作时，磁极回转，保证了靶材表面均被等离子体球覆盖，于是靶材表面不会形成明显的刻蚀沟槽。

进一步的，所述磁极回转系统包括：

导磁座，所述导磁座上设置有磁极；

传动结构，其一端与导磁座固定连接；

电机，其与传动结构远离导磁座的另一端连接，并通过驱动传动结构旋转导磁座。

进一步的，所述磁极回转系统通过轴承与靶基座内壁活动连接。

采用这样的结构，电机带动导磁座回转，并且磁极回转系统通过轴承减小与靶基座之间的摩擦，从而减小了磁极回转系统与靶基座的磨损。

进一步的，所述传动结构包括：

传动轴，其一端与导磁座固定连接；

锥齿轮，其包括相互啮合的主动轮与从动轮，所述从动轮套设于传动轴远离导磁座的一端，所述主动轮套设于电机的转轴上。

采用这样的结构，可以更加方便地控制磁极的回转。

进一步的，本发明还包括：

绝缘板,其为圆环形结构，所述绝缘板设置靶基座上。

进一步的，本发明还包括：

水冷腔，其设置绝缘板上，用于冷却；

靶材，其设置在水冷腔上；