[发明专利]一种表面带拼接纹的终端外壳的制备方法及终端外壳

权利要求书

1.一种表面带拼接纹的终端外壳的制备方法，其特征在于，包括：

提供表面带设计纹理的终端外壳；

在所述设计纹理的表面沉积装饰层，并对所述装饰层进行局部雕刻，得到表面带拼接纹的终端外壳；

所述提供表面带设计纹理的终端外壳的步骤，具体包括：

根据设计纹理图档对塑胶模具进行晒纹处理；

采用晒纹处理后的所述塑胶模具进行注塑，得到表面带设计纹理的终端外壳；

所在所述设计纹理的表面沉积装饰层的步骤，具体包括：在所述设计纹理的表面沉积第一UV层，在所述第一UV层的表面沉积镀膜层，在所述镀膜层的表面沉积第一保护层；

所述在所述设计纹理的表面沉积第一UV层的步骤之前，还包括：在所述设计纹理的表面沉积界面层，在所述界面层的表面沉积色漆层，在所述色漆层的表面沉积所述第一UV层；

所述界面层为PU型底漆处理剂，所述PU型底漆处理剂中含有10％-15％的黑色浆或灰色色浆。

2.如权利要求1所述的表面带拼接纹的终端外壳的制备方法，其特征在于，所述对所述装饰层进行局部雕刻，得到表面带拼接纹的终端外壳的步骤，具体包括：

在所第一保护层上设置雕刻区域，所述雕刻区域始于所述设计纹理的端部终于所述拼接纹的拼接线；

将所述雕刻区域内的所述镀膜层和第一保护层除去，露出所述第一UV层，得到表面带拼接纹的终端外壳。

3.如权利要求2所述的表面带拼接纹的终端外壳的制备方法，其特征在于，所述将所述雕刻区域内的所述镀膜层和第一保护层除去，露出所述第一UV层的步骤之后，还包括：在露出的所述第一UV层表面沉积第二保护层，在所述第二保护层的表面沉积第二UV层。

4.如权利要求3所述的表面带拼接纹的终端外壳的制备方法，其特征在于，所述界面层的厚度为6-10微米，所述界面层的颜色为灰色或黑色。

5.如权利要求1所述的表面带拼接纹的终端外壳的制备方法，其特征在于，所述镀膜层的厚度为30-50纳米。

6.如权利要求3所述的表面带拼接纹的终端外壳的制备方法，其特征在于，所述第二UV层为哑光UV层或亮光UV层，所述第二UV层的厚度为20-30微米。

7.一种终端外壳，其特征在于，所述终端外壳采用权利要求1-6任一所述的表面带拼接纹的终端外壳的制备方法制备得到。