[发明专利]一种对位模块及真空蒸镀装置在审
| 申请号： | 202110453590.3 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN113136545A | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 茆胜 | 申请（专利权）人： | 睿馨（珠海）投资发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海洞鉴知识产权代理事务所(普通合伙) 31346 | 代理人： | 刘少伟 |
| 地址： | 519000 广东省珠海市横琴新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 对位 模块 真空 装置 | ||
1.一种对位模块，用以实现掩膜版上对位孔与硅基板上对位标志的对位配合，其特征在于，包括：
置于所述对位孔正下方的镜面；以及
置于所述镜面外侧的图像采集装置。
2.根据权利要求1所述的一种对位模块，其特征在于，所述镜面为平面式反射镜，具有一定的倾斜角度，所述倾斜角度为30°～60°。
3.根据权利要求2所述的一种对位模块，其特征在于，所述平面式反射镜的倾斜角度为45°，所述图像采集装置水平放置于所述平面式反射镜的外侧。
4.根据权利要求1所述的一种对位模块，其特征在于，所述镜面为直角全反射棱镜，其棱镜面具有一定的倾斜角度，所述倾斜角度为30°～60°。
5.根据权利要求4所述的一种对位模块，其特征在于，所述直角全反射棱镜的棱镜面的倾斜角度为45°，所述图像采集装置水平放置于所述平面式反射镜的外侧。
6.根据权利要求1所述的一种对位模块，其特征在于，所述图像采集装置包括CCD摄像头。
7.一种真空蒸镀设备，包括：腔室、蒸发源、蒸发源挡板、基板、以及掩膜版，其特征在于，还包括如权利要求1-6任意一项权利要求所述的对位模块；
所述对位模块的镜面固定在所述掩膜版下方的支架上，所述对位模块的图像采集装置位于所述腔室的外侧，在所述腔室上开设有观察孔，所述观察孔位于所述图像采集装置和镜面之间的，并保证所述图像采集装置通过该观察孔经过所述镜面反射后观察到所述掩膜版和基板的对位状态。
8.根据权利要求7所述的一种真空蒸镀设备，其特征在于，所述对位模块至少为2个，分别位于所述腔室内的不同位置。
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