[发明专利]一种像素单元、显示器件、显示装置及其制备方法

权利要求书

1.一种基于光学微腔技术的像素单元，其特征在于，包括：在基底上形成的反射结构，在所述反射结构内填充有间隔层，在所述反射结构的上方依次设有阳极层、有机发光结构、阴极层；

所述阴极层及其下面的反射结构之间的各层形成了光学微腔，根据所述间隔层不同厚度，使得所述光学微腔从发射的白光中分别激发出不同颜色的光，并生成该颜色的子像素。

2.根据权利要求1所述的一种基于光学微腔技术的像素单元，其特征在于，所述反射结构包括一反射底面和两个反射侧边缘，所述反射底面与发射侧边缘形成U形腔室，所述间隔层置于该U形腔室内。

3.根据权利要求2所述的一种基于光学微腔技术的像素单元，其特征在于，所述反射底面的厚度为0.1um到2um。

4.根据权利要求2所述的一种基于光学微腔技术的像素单元，其特征在于，所述反射侧边缘沿垂直于基底的方向垂直纵向延伸。

5.根据权利要求1所述的一种基于光学微腔技术的像素单元，其特征在于，所述反射结构的反射系数大于或等于70％的可见光范围内的材料形成。或者，反射系数大于或等于80％；或者，反射系数大于或等于85％；或者，反射系数大于或等于90％。

6.根据权利要求5所述的一种基于光学微腔技术的像素单元，其特征在于，所述反射结构的材料包括铝(Al)、银(Ag)、铂(Pt)、铬(Cr)、镍(Ni)、钨(W)金属材料，上述的金属材料在可见光范围内具有高强度反射系数和高导电性。

7.根据权利要求1所述的一种基于光学微腔技术的像素单元，其特征在于，所述阳极层的传输系数大于阴极层的传输系数；所述阳极层传输系数大于或等于70％；或者，传输系数大于或等于80％；或者，传输系数大于或等于85％；或者，传输系数大于或等于90％，所述阳极层的材料为氧化铟锡(ITO)、氧化锡(SnO₂)、氧化锌(ZnO)氧化物中的任意一种。

8.根据权利要求7所述的一种基于光学微腔技术的像素单元，其特征在于，所述阴极层的传输系数严格小于80％，或者，传输系数小于70％，或者，传输系数小于60％；所述阴极层的材料包括铝(Al)、银(Ag)、铂(Pt)、铬(Cr)、镍(Ni)、钨(W)金属材料。

9.一种显示器件，其特征在于，包括：基底、以及设置在所述基底内的驱动电路，在所述基底上设有若干个如权利要求1-8任意一项权利要求所述的一种基于光学微腔技术的像素单元，相邻两个所述像素单元的反射结构之间具有一定间距，并填充有绝缘介质，在所述反射结构与基底之间设有介电图案层，在所述介电图案层的外侧设有连接所述驱动电路的金属边缘，实现所述像素单元和驱动电路的联通，用来驱动所述像素单元发光。

10.根据权利要求9所述的一种显示器件，其特征在于，所述绝缘介质的材料为二氧化硅。

11.一种显示装置，包括如权利要求10-11任意一项权利要求所述的显示器件。

12.一种显示器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤，

S1在基底上形成可见光波长范围内的反射结构；

S2在所述反射结构上形成间隔层；

S3在所述间隔层上形成透明的阳极层；

S4在所述阳极层上形成白光有机电致发光层；

S5在所述有机电致发光层上形成阴极层。

13.根据权利要求12所述的一种显示器件的制作方法，其特征在于，所述反射结构与基底之间设有介电图案层。

14.根据权利要求12所述的一种显示器件的制作方法，其特征在于，所述阴极层在可见光波段区域内具有半透明性质；所述阴极层、间隔层和反射结构形成光学谐振器。