[发明专利]一种掩膜导向板、掩膜系统及蒸镀掩膜方法

权利要求书

1.一种掩膜导向板，其特征在于，包括：

导向板本体；

若干个导向孔，贯穿于所述导向板本体，并允许流入角度为±θ的蒸发分子通过。

2.根据权利要求1所述的一种掩膜导向板，其特征在于，所述蒸发分子的流入角度±θ为±0.5°～±18.5°之间。

3.根据权利要求1所述的一种掩膜导向板，其特征在于，所述导向孔的高度与直径的比不小于3，且所述导向孔的高度与直径的比不大于100。

4.根据权利要求1所述的一种掩膜导向板，其特征在于，所述导向板本体采用刚性材料制作而成，所述刚性材料具有承受热蒸发的温度而无显著变形的特性。

5.根据权利要求1所述的一种掩膜导向板，其特征在于，所述导向孔成规则的方式分布于所述导向板本体上，所述导向孔为圆孔或正多边形。

6.根据权利要求5所述的一种掩膜导向板，其特征在于，相邻两个所述导向孔的间距不大于所述导向孔的直径。

7.一种掩膜系统，其特征在于，包括：

掩膜版，在所述掩膜版上设有若干个图案化开口；

如权利要求1-6任意一项权利要求所述的掩膜导向板，位于所述掩膜版的正下方，蒸发分子经过所述掩膜导向板的阻隔过滤后穿过所述掩膜版，并沉积到OLED基底上。

8.根据权利要求7所述一种掩膜系统，其特征在于，所述图案化开口成规则排列。

9.根据权利要求7所述一种掩膜系统，其特征在于，所述掩膜版与所述掩膜导向板具有一定间距，所述间距不低于所述掩膜导向板上的导向孔的直径。

10.根据权利要求7所述一种掩膜系统，其特征在于，所述导向孔的直径不大于图案化开口的直径。

11.一种OLED显示器件的蒸镀掩膜方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1将OLED基底、掩膜版、掩膜导向板分别安装在基座上；

S2校准所述掩膜导向板和掩膜版的位置，并使之组成稳定的掩膜系统；

S3调整所述掩膜系统的位置，并使得所述掩膜版上的开口位置与所述OLED基底的待沉积位置对应；

S4开启蒸发源，并完成所述OLED基底的待沉积位置的沉积，并形成对应的沉积层；

S5重复步骤S3-S4，直至所述OLED基底完成全部的沉积过程。

12.根据权利要求11所述的一种OLED显示器件的蒸镀掩膜方法，其特征在于，步骤S3中的所述待沉积位置包括第一颜色子像素区域、第二颜色子像素区域、第三颜色子像素区域；所述第一颜色子像素区域、第二颜色子像素区域、第三颜色子像素区域所沉积的颜色层能够混合成白光。

13.根据权利要求11所述的一种OLED显示器件的蒸镀掩膜方法，其特征在于，完成后的OLED基底表面的沉积层位于同一平面。