[发明专利]一种铸造纵列多结光伏电池在审

专利信息
申请号: 202110455918.5 申请日: 2021-04-26
公开(公告)号: CN113206164A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 高文秀;佐佐木实;赵百通;高向曈 申请(专利权)人: 宜兴市昱元能源装备技术开发有限公司
主分类号: H01L31/0725 分类号: H01L31/0725;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 无锡智麦知识产权代理事务所(普通合伙) 32492 代理人: 宋春荣
地址: 214000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 铸造 纵列 多结光伏 电池
【权利要求书】:

1.一种铸造纵列多结光伏电池,其特征在于:所述光伏电池包括:

电池基板,所述电池基板具有若干贯穿孔;

晶硅pn结;

禁带宽度为1.5~2.5eV的第二pn结,所述晶硅pn结位于所述电池基板与所述第二pn结之间;

背面电极,所述背面电极通过填充在所述电池基板的贯穿孔中的导体与所述硅pn结电连接;

以及,表面电极,所述表面电极与所述第二pn结电连接。

2.根据权利要求1所述的铸造纵列多结光伏电池,其特征在于:所述晶硅pn结为单晶硅pn结或多晶硅pn结;

优选地,所述晶硅pn结的厚度为40~60微米。

3.根据权利要求1所述的铸造纵列多结光伏电池,其特征在于:所述第二pn结为CdTe、Ca1.7Fe0.3Te、Ca2Si、ZnTe、Os2Si3、Zn0.75Sn0.25Te、Cd0.5Zn0.5Te或非晶硅pn结;

优选地,所述第二pn结的厚度为0.4~2微米;

优选地,所述第二pn结为Ca2Si或Os2Si3 pn结,且在所述第二pn结与所述硅pn结之间具有形成硅浓度梯度的过渡层;

更优选地,所述过渡层的厚度不大于0.1微米;

更优选地,所述过渡层的厚度为0.01~0.05微米。

4.根据权利要求1所述的铸造纵列多结光伏电池,其特征在于:所述电池基板为陶瓷基板,填充在所述电池基板的贯穿孔中的导体为导电玻璃。

5.根据权利要求1所述的铸造纵列多结光伏电池,其特征在于:所述光伏电池具有以下层状结构之一:

电池基板/n型晶硅/p型晶硅/n型Ca2Si/p型Ca2Si;

电池基板/p型晶硅/n型晶硅/p型Ca2Si/n型Ca2Si;

电池基板/n型晶硅/p型晶硅/具有形成硅浓度梯度的过渡层/n型Ca2Si/p型Ca2Si;

或者,电池基板/p型晶硅/n型晶硅/具有形成硅浓度梯度的过渡层/p型Ca2Si/n型Ca2Si。

6.权利要求1所述铸造纵列多结光伏电池的制备方法,包括:

用导体填充电池基板的贯穿孔的步骤;

在电池基板上形成晶硅pn结的步骤;

在晶硅pn结上形成第二pn结的步骤;

形成背面电极和表面电极的步骤。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:

用导体填充电池基板的贯穿孔的步骤;

在电池基板上形成n型晶硅的步骤;

对n型晶硅进行硼扩散形成晶硅pn结的步骤;

在晶硅pn结上溅射n型第二半导体的步骤;

在n型第二半导体上溅射p型第二半导体形成第二pn结的步骤;

形成背面电极和表面电极的步骤;

或者,

用导体填充电池基板的贯穿孔的步骤;

在电池基板上形成p型晶硅的步骤;

对p型晶硅进行磷扩散形成晶硅pn结的步骤;

在晶硅pn结上溅射p型第二半导体的步骤;

在p型第二半导体上溅射n型第二半导体形成第二pn结的步骤;

形成背面电极和表面电极的步骤。

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