[发明专利]对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法及存储介质有效
申请号: | 202110464994.2 | 申请日: | 2021-04-28 |
公开(公告)号: | CN113644018B | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 小林康信 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/67;H10K71/16;H10K71/00;C23C14/54;C23C14/24;C23C14/04 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 李双亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对准 装置 方法 电子器件 制造 存储 介质 | ||
1.一种对准装置,其特征在于,
所述对准装置具备:
基板支承部件,所述基板支承部件支承基板的周缘部;
掩模支承部件,所述掩模支承部件支承掩模;
接离部件,所述接离部件使所述基板支承部件及所述掩模支承部件中的至少一方沿重力方向移动,使由所述基板支承部件支承的所述基板及由所述掩模支承部件支承的所述掩模沿重力方向接近及分离;
测量部件,所述测量部件在利用所述接离部件使所述基板与所述掩模局部地接触的状态下,进行测量所述基板与所述掩模的位置偏移量的测量动作;
位置调整部件,所述位置调整部件在利用所述接离部件使所述基板与所述掩模分离的状态下,基于通过所述测量动作测量出的所述位置偏移量,进行调整所述基板与所述掩模的相对位置的位置调整动作;以及
控制部件,所述控制部件反复执行所述测量动作和所述位置调整动作,直到所述位置偏移量成为容许范围内,
在所述位置偏移量处于容许范围内的情况下,所述控制部件选择性地执行所述位置调整动作和使所述基板与所述掩模相互重合的重合动作,
所述控制部件判定所述测量动作是否为初次的所述测量动作,
在判定为是初次的所述测量动作的情况下,即便其测量结果在所述容许范围内,也执行所述位置调整动作。
2.根据权利要求1所述的对准装置,其特征在于,
所述控制部件在利用所述位置调整部件执行所述位置调整动作之后,利用所述接离部件使所述基板与所述掩模局部地接触,利用所述测量部件执行所述测量动作。
3.根据权利要求1所述的对准装置,其特征在于,
初次的所述测量动作包括如下动作:利用所述接离部件使被搬运到所述对准装置并由所述基板支承部件受领的基板接近所述掩模而进行最初接触。
4.一种对准装置,其特征在于,
所述对准装置具备:
基板支承部件,所述基板支承部件支承基板的周缘部;
掩模支承部件,所述掩模支承部件支承掩模;
接离部件,所述接离部件使所述基板支承部件及所述掩模支承部件中的至少一方沿重力方向移动,使由所述基板支承部件支承的所述基板及由所述掩模支承部件支承的所述掩模沿重力方向接近及分离;
测量部件,所述测量部件在利用所述接离部件使所述基板与所述掩模局部地接触的状态下,进行测量所述基板与所述掩模的位置偏移量的测量动作;
位置调整部件,所述位置调整部件在利用所述接离部件使所述基板与所述掩模分离的状态下,基于通过所述测量动作测量出的所述位置偏移量,进行调整所述基板与所述掩模的相对位置的位置调整动作;以及
控制部件,所述控制部件反复执行所述测量动作和所述位置调整动作,直到所述位置偏移量成为容许范围内,
在所述位置偏移量处于容许范围内的情况下,所述控制部件选择性地执行所述位置调整动作和使所述基板与所述掩模相互重合的重合动作,
所述控制部件判定所述测量动作是否为初次的所述测量动作,
在判定为是初次的所述测量动作的情况下,不判定其测量结果是否在所述容许范围内地执行所述位置调整动作。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的对准装置,其特征在于,
所述位置调整部件使所述基板支承部件移动并调整所述相对位置,
所述接离部件使所述基板支承部件移动并使所述基板相对于所述掩模接近及分离。
6.根据权利要求1~4中任一项所述的对准装置,其特征在于,
所述基板支承部件包括夹持部,所述夹持部夹持所述基板的所述周缘部的至少一部分。
7.根据权利要求6所述的对准装置,其特征在于,
至少在进行所述测量动作及所述位置调整动作的期间,所述夹持部维持对所述基板的所述周缘部的至少一部分进行夹持的状态。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造