[发明专利]光致抗蚀剂组合物在审
申请号: | 202110468929.7 | 申请日: | 2013-06-04 |
公开(公告)号: | CN113391518A | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 河村麻贵;中西润次 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李新红 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光致抗蚀剂 组合 | ||
1.一种光致抗蚀剂组合物,所述光致抗蚀剂组合物包含:
树脂,所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加;
酸生成剂;
增塑剂;和
溶剂,所述溶剂的量为所述光致抗蚀剂组合物的总量的40至75质量%。
2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物,其中所述树脂是通过将以下三者反应而获得的树脂:
酚醛清漆树脂,
具有两个以上乙烯氧基的化合物,和
树脂,所述树脂包含由式(a1-2)表示的结构单元或由式(a2-1)表示的结构单元,或者同时包含这两种结构单元:
其中Ra1’和Ra2’各自独立地表示氢原子或其中的亚甲基任选已经被氧原子或硫原子代替的C1-C12烃基,Ra3’表示其中的亚甲基任选已经被氧原子或硫原子代替的C1-C20烃基,或
Ra1’和Ra2’中的一个与Ra3’连接而形成其中的亚甲基任选已经被氧原子或硫原子代替的C2-C20二价烃基,并且另一个表示氢原子或其中的亚甲基任选已经被氧原子或硫原子代替的C1-C12烃基,
Ra5表示氢原子或甲基,
Ra6表示C1-C6烷基或C1-C6烷氧基,并且m表示0至4的整数,
Ra7表示氢原子或甲基,
Ra10表示C1-C6烷基或C1-C6烷氧基,并且m′表示0至4的整数。
3.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物,所述光致抗蚀剂组合物还包含酚醛清漆树脂。
4.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物,其中所述酸生成剂是由式(b5)表示的化合物:
其中Rb1表示其中的氢原子任选已经被氟原子代替并且其中的亚甲基任选已经被氧原子或羰基代替的C1-C18烃基。
5.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物,其中所述增塑剂是选自由以下各项组成的组中的一种:邻苯二甲酸酯、脂族烃羧酸酯和芳香族磺酰胺。
6.一种用于制备厚度为3μm至150μm的光致抗蚀剂膜的光致抗蚀剂组合物,所述光致抗蚀剂组合物包含:
树脂,所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加;
酸生成剂;
增塑剂;和
溶剂。
7.一种厚度为3μm至150μm的光致抗蚀剂膜,所述光致抗蚀剂膜通过向基板涂敷光致抗蚀剂组合物得到,所述光致抗蚀剂组合物包含:
树脂,所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加;
酸生成剂;
增塑剂;和
溶剂。
8.一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法,所述方法包括:
(1)将根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物涂敷在基板上的步骤,
(2)通过干燥所述光致抗蚀剂组合物而形成光致抗蚀剂组合物膜的步骤,
(3)将所述光致抗蚀剂组合物膜曝光的步骤,以及
(4)将所曝光的光致抗蚀剂组合物膜显影的步骤。
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