[发明专利]光致抗蚀剂组合物

说明书

本发明公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：树脂，所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加；酸生成剂；增塑剂；和溶剂，所述溶剂的量为所述光致抗蚀剂组合物的总量的40至75质量％。

本申请是申请日为2013年6月4日、中国申请号为201310218296.x 且发明名称为《光致抗蚀剂组合物》的发明申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。

背景技术

在通过半导体芯片用薄膜安装插脚的过程中，在基板上排列配置作为具有4至150μm高度的突起的电极。

对于用于制备突起的光致抗蚀剂组合物，JP2008-134515A1提到了一种正性型化学放大光致抗蚀剂组合物，该光致抗蚀剂组合物任选地包含作为猝灭剂的胺化合物。

发明内容

本申请给出如下方面的发明。

[1]一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：

树脂，所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加；

酸生成剂；

增塑剂；和

溶剂，所述溶剂的量为所述光致抗蚀剂组合物的总量的40至75质量％。

[2]根据[1]所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂是通过将以下三者反应而获得的树脂：

酚醛清漆树脂，

具有两个以上乙烯氧基的化合物，和

树脂，所述树脂包含由式(a1-2)表示的结构单元或由式(a2-1)表示的结构单元，或同时包含上述这两种结构单元：

其中R^a1’和R^a2’各自独立地表示氢原子或其中的亚甲基任选已经被氧原子或硫原子代替的C1-C12烃基，R^a3’表示其中的亚甲基任选已经被氧原子或硫原子代替的C1-C20烃基，或者

R^a1’和R^a2’中的一个与R^a3’连接而形成其中的亚甲基任选已经被氧原子或硫原子代替的C2-C20二价烃基，并且另一个表示氢原子或其中的亚甲基任选已经被氧原子或硫原子代替的C1-C12烃基，

R^a5表示氢原子或甲基，

R^a6表示C1-C6烷基或C1-C6烷氧基，并且m表示0至4的整数，

R^a7表示氢原子或甲基，

R^a10表示C1-C6烷基或C1-C6烷氧基，并且m′表示0至4的整数。

[3]根据[1]或[2]所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物还包含酚醛清漆树脂。

[4]根据[1]至[3]中任一项所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述酸生成剂是由式(b5)表示的化合物：

其中R^b1表示其中的氢原子任选已经被氟原子代替并且其中的亚甲基任选已经被氧原子或羰基代替的C1-C18烃基。

[5]根据[1]至[4]中任一项所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述增塑剂是选自由以下各项组成的组中的一种：邻苯二甲酸酯、脂族烃羧酸酯和芳香族磺酰胺。

[6]一种用于制备厚度为3μm至150μm的光致抗蚀剂膜的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：