[发明专利]晶圆背面清洁装置、浸没式光刻机及晶圆背面清洁方法

权利要求书

1.一种晶圆背面清洁装置，其特征在于，包括气体喷射器，所述气体喷射器配置有朝向晶圆背面的喷气通道，所述喷气通道用于向晶圆背面喷射气体；

所述喷气通道设置有多个，分散在晶圆工作台上；

所述晶圆工作台设置在浸没式光刻机中，所述浸没式光刻机的每个E-pin升降机构为中空结构，形成所述喷气通道。

2.如权利要求1所述的晶圆背面清洁装置，其特征在于，所述喷气通道在所述晶圆工作台上沿周向均匀分布。

3.如权利要求1所述的晶圆背面清洁装置，其特征在于，所述气体喷射器喷射的气体为空气。

4.如权利要求1所述的晶圆背面清洁装置，其特征在于，所述气体喷射器为高速气体喷射器。

5.一种浸没式光刻机，其特征在于，包括：

移送装置，用于移送所述晶圆；

晶圆工作台，用于承载晶圆；

多个E-pin升降机构，用于吸附所述晶圆做上下往复运动；

如权利要求1-3任意一项所述的晶圆背面清洁装置，用于对晶圆背面进行清洁。

6.如权利要求5所述的浸没式光刻机，其特征在于，所述移送 装置为机械手。

7.一种晶圆背面清洁方法，其特征在于，所述晶圆背面清洁方法包括：

移送装置抓取晶圆，并将所述晶圆移送至晶圆工作台的上方；

晶圆背面清洁装置对晶圆背面进行清理；

E-pin升降机构上升吸附所述晶圆；

所述移送装置松开所述晶圆，所述E-pin升降机构吸附所述晶圆一同下降至晶圆工作台处；

其中，晶圆背面清洁装置通过设置在E-pin升降机构内的喷气通道向上吹气。

8.如权利要求7所述的晶圆背面清洁方法，其特征在于，晶圆背面清洁装置对晶圆背面进行清理，具体包括：

晶圆背面清洁装置通过吹气对晶圆背面进行清理。