[发明专利]掩模板及掩模板使用方法

说明书

本申请实施例公开了一种掩模板及掩模板使用方法。掩模板包括第一曝光区和第二曝光区，所述第二曝光区位于所述第一曝光区的任意侧；所述第一曝光区设置有用于形成第一功能膜层的第一预设图案，所述第二曝光区设置有用于形成第二功能膜层的第二预设图案，其中，所述第一曝光区与所述第二曝光区在不同时间段工作。通过在同一掩模板上设计不同功能膜层对应的曝光区，采用同一掩模板即可以完成不同功能膜层的图案化制作，可以解决现有的掩模板利用效率低、掩模板使用数量多、研发和生产成本高的问题。

技术领域

本申请涉及显示领域，具体涉及一种掩模板及掩模板使用方法。

背景技术

当前平板显示行业，制作阵列基板(TFT基板)和彩膜基板(CF基板)时通常采用掩模板曝光方式得到特定设计的图案。通常来说每一道制程都需要制作特定掩模板，而且掩模板价格较为昂贵。当阵列基板(TFT基板)和彩膜基板(CF基板)的膜层数量或制程步骤较多时，高昂的掩模板费用无疑会大大增加研发和生产成本。因此，现有的掩模板利用效率低，掩模板使用数量多，研发和生产成本高。

发明内容

本申请实施例提供一种掩模板及掩模板使用方法。掩模板包括第一曝光区和第二曝光区，所述第二曝光区位于所述第一曝光区的任意侧；所述第一曝光区设置有用于形成第一功能膜层的第一预设图案，所述第二曝光区设置有用于形成第二功能膜层的第二预设图案，其中，所述第一曝光区与所述第二曝光区在不同时间段工作。通过在同一掩模板上设计不同功能膜层对应的曝光区，采用同一掩模板即可以完成不同功能膜层的图案化制作，可以解决现有的掩模板利用效率低、掩模板使用数量多、研发和生产成本高的问题。

本申请实施例提供了一种掩模板，包括第一曝光区和第二曝光区，所述第二曝光区位于所述第一曝光区的任意侧；所述第一曝光区设置有用于形成第一功能膜层的第一预设图案，所述第二曝光区设置有用于形成第二功能膜层的第二预设图案，其中，所述第一曝光区与所述第二曝光区在不同时间段工作。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一曝光区先于所述第二曝光区使用，所述第一功能膜层与所述第二功能膜层位于不同膜层。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一曝光区先于所述第二曝光区使用，所述第一功能膜层与所述第二功能膜层位于同一膜层的不同区域。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一功能膜层为金属膜层、无机膜层、有机膜层之中的一种，所述第二功能膜层为金属膜层、无机膜层、有机膜层之中不同于所述第一功能膜层的另一种。

可选的，在本申请的一些实施例中，还包括第三曝光区，所述第一曝光区、所述第二曝光区和所述第三曝光区均在不同时间段使用。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一曝光区、所述第二曝光区和所述第三曝光区沿同一方向排布。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一曝光区和所述第二曝光区沿一方向排布，所述第三曝光区位于与所述第一曝光区和所述第二曝光区相邻的一侧。

相应的，本申请实施例还提供了一种掩模板使用方法，使用上述任一项所述的掩模板，并包括以下步骤：

步骤S100：提供一基底，在所述基底上形成第一膜层，在所述第一膜层上形成第一光阻，使用所述第一曝光区的所述第一预设图案对所述第一光阻进行曝光处理，然后进行显影和刻蚀工艺形成所述第一功能膜层，此时所述第二曝光区为遮蔽态；

步骤S200：在所述第一功能膜层上形成第二膜层，在所述第二膜层上形成第二光阻，使用所述第二曝光区的所述第二预设图案对所述第二光阻进行曝光处理，然后进行显影和刻蚀工艺形成所述第二功能膜层，此时所述第一曝光区为遮蔽态。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述基底包括第一区域和第二区域；所述步骤S100包括：