[发明专利]一种接触氧化污水处理设备及污水处理方法

权利要求书

1.一种接触氧化污水处理设备，其特征在于，包括接触氧化池和智滤池，所述接触氧化池内设有曝气支管，所述曝气支管上连接有曝气主管，所述曝气主管固定于所述接触氧化池上，所述接触氧化池内设有过水口，所述接触氧化池底部形成污泥区，所述污泥区内设有多个穿孔排泥管，多个所述穿孔排泥管均匀地分布于所述污泥区，所述穿孔排泥管的底部设有多个均匀分布的孔，所述穿孔排泥管顶侧设有多个排泥管，所述排泥管与所述穿孔排泥管数量相同，所述排泥管一端与所述穿孔排泥管接通，另一端伸出于所述接触氧化池，所述排泥管顶侧设有反冲管，所述反冲管一端与所述排泥管接通，另一端向接触氧化池顶部延伸并连接风机，所述反冲管底部设有气动阀和手动阀，所述接触氧化池内设有填料；

所述智滤池包括智滤池本体、排污区、沉淀区、过滤区、清水区、进水区和出水区，所述排污区、沉淀区、过滤区、清水区从下至上依次设置于所述智滤池本体内，所述进水区设于所述智滤池本体内，所述出水区设于所述清水区顶侧，所述过滤区内设有过滤装置，所述智滤池本体上方设有反冲洗装置，所述反冲洗装置下方设有能量波发生装置。

2.根据权利要求1所述的一种接触氧化污水处理设备，其特征在于，所述接触氧化池一端设有进水管，另一端设有出水管，所述进水管和出水管的一端与所述接触氧化池接通，另一端伸出于所述接触氧化池。

3.根据权利要求1所述的一种接触氧化污水处理设备，其特征在于，所述污泥区底部设有多个第一泥斗，多个所述第一泥斗均匀地分布于所述污泥区底部，所述污泥区底部设有多个穿孔排泥管，多个所述穿孔排泥管均匀地分布于所述污泥区底部。

4.根据权利要求1所述的一种接触氧化污水处理设备，其特征在于，所述接触氧化池顶部设有第一导轨，所述第一导轨上设有第二导轨，所述第二导轨与所述第一导轨滑动连接，所述第二导轨上设有滑动支架，所述滑动支架与所述第二导轨滑动连接，所述反冲洗装置和能量波发生装置均固定于所述滑动支架上。

5.根据权利要求1所述的一种接触氧化污水处理设备，其特征在于，所述智滤池本体顶部设有隔墙，所述隔墙将所述进水区和排污区分隔开，所述智滤池本体底部设有第二泥斗，所述第二泥斗呈斗状。

6.根据权利要求1所述的一种接触氧化污水处理设备，其特征在于，所述进水区上设有进水口，所述进水口上设有进水阀。

7.根据权利要求1所述的一种接触氧化污水处理设备，其特征在于，所述沉淀区设有排污口，所述排污口上设有排污阀。

8.根据权利要求1所述的一种接触氧化污水处理设备，其特征在于，所述反冲管的直径为100mm。

9.根据权利要求1-8任一条所述的一种接触氧化污水处理设备的污水处理方法，其特征在于，所述污水处理方法包括以下步骤：

一、污水引流、污泥回流步骤，将智滤池内的回流污泥从接触氧化池的进水管进入接触氧化池内，成为接触氧化池内污水，污水向下流通过填料到达污泥沉淀区，接触氧化池对污泥进行阻挡，由于接触氧化池的阻挡作用，污水通过过水口，向上流再次通过填料到达池面，再通过出水管排至智滤池进水口，将污水通过智滤池进水口进入进水区，再进入沉淀区，向上流经过滤区、过滤装置到达清水区，再到达出水区出水，污水中大量污泥被截留，通过沉淀区进入排污口，再通过排污口回流至接触好氧池进水管，形成循环；

二、生化反应与排泥步骤，将智滤池内的回流污泥从接触氧化池的进水管进入接触氧化池，在填料中进行好氧反应去除污泥中的有机物，好氧反应的氧气由曝气主管和曝气支管提供，上清液通过出水管排出至智滤池进水口，污泥进入污泥区，污泥沉淀后，进入穿孔排泥管，再进入排泥管，反冲管由气动阀和手动阀控制，定期自动进行气反冲排泥，将污泥从排泥管排出接触氧化池外。

10.根据权利要求9所述的污水处理方法，其特征在于，所述智滤池包括以下污水处理步骤：

污水从智滤池的进水区进入，向上依次流经沉淀区、过滤区、过滤装置、清水区，沉淀区、过滤区、过滤装置依次对污水进行多重截留、过滤，大量污泥被截留，沉淀于智滤池底部的沉淀区，再通过排污区进行污泥连续回流至接触氧化池进水管，污水被截留、过滤后流经清水区。