[发明专利]微流控芯片及其用途

权利要求书

1.一种微流控芯片，其特征在于，其包括反应芯片(1)和位于其上方的过滤片(10)，所述过滤片(10)用于过滤并收集待测物；所述反应芯片(1)上设置有出样口、至少一进样口和若干功能腔，所述功能腔通过流道连接，每个进样口分别对应联通一个进液口，进液口将相应的液体导入功能腔或流道。

2.根据权利要求1所述的微流控芯片，其特征在于，所述功能腔为加样、反应、过滤、检测、混合功能腔中的一种或几种；

优选地，所述功能腔包括富集腔(2)、特异性反应腔(3)和洗脱腔(4)，所述富集腔(2)与特异性反应腔(3)之间设置有第一流道(5)，所述特异性反应腔(3)和洗脱腔(4)之间设置有第二流道(6)；

优选地，所述第一流道(5)、第二流道(6)为微流道或毛细流道。

优选地，第一流道(5)、第二流道(6)包括一个或多个流道。

优选地，所述第一流道(5)、第二流道(6)均由多个流道并列设置而成；

优选地，所述第一流道(5)、第二流道(6)的宽度和深度相同或不同。

优选地，所述第一流道(5)、第二流道(6)上不同位置处流道的宽度相同或者不同。

优选地，所述第一流道(5)、第二流道(6)为直线结构、折线结构或曲线结构，更优选为螺旋形结构或蛇形结构。

3.根据权利要求2所述的微流控芯片，其特征在于，所述富集腔(2)和特异性反应腔(3)所在的区域均设置有磁场。

优选地，所述富集腔(2)的下方设置有磁场，所述特异性反应腔(3)的上方和下方均设置有磁场；

优选地，上下方磁场由标准汝铁硼永磁铁产生，磁铁具有相同的最大磁能积20MGeo～60MGeo，上下方磁铁平行，长边与特异性反应腔3垂直，上下方磁铁与特异性反应腔(3)沟道中心面的距离相等。

4.根据权利要求2所述的微流控芯片，其特征在于，所述进样口的数量为1个或多个，优选地，为2个，3个、4个或≥5个，进样口和出样口的位置设置在流道上或连接在反应腔上；

优选地，所述反应芯片(1)上设置有处理液入口(7)、特异性溶液入口(9)和废液出口(8)；

所述洗脱腔(4)连接一处理液入口(7)，所述富集腔(2)上连接一废液出口(8)，所述第二流道(7)上连接有特异性溶液入口(9)；

优选地，所述特异性溶液入口(9)靠近特异性反应腔(3)设置；

优选地，所述处理液入口(7)和特异性溶液入口(9)均包括加样孔，所述加样孔通过相应的流道与洗脱腔(4)、富集腔(2)连通。

5.根据权利要求2所述的微流控芯片，其特征在于，所述过滤片(10)上设置有滤膜(11)，且所述过滤片(10)上与滤膜(11)相对应之处为空腔结构；当所述滤膜(11)的顶面面向所述反应芯片(1)时，所述空腔结构至少一部分与所述富集腔(2)相连通。