[发明专利]一种无掩膜曝光镜头有效
申请号: | 202110492486.5 | 申请日: | 2021-04-28 |
公开(公告)号: | CN113156779B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | 桂立 | 申请(专利权)人: | 苏州赛源光学科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 葛燕婷 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 无掩膜 曝光 镜头 | ||
1.一种无掩膜曝光镜头,包括DMD芯片组件以及匀光棒,其特征在于:所述无掩膜曝光镜头还包括准直透镜组、汇聚透镜、前透镜组、光阑以及后透镜组,所述匀光棒、所述准直透镜组、所述汇聚透镜以及所述DMD芯片组件形成照明模组,所述匀光棒出光面作为所述照明模组的物面,所述DMD芯片组件作为所述照明模组的像面;所述DMD芯片组件、所述前透镜组、所述光阑以及所述后透镜组形成投影模组,所述DMD芯片组件作为所述投影模组的物面,无掩膜曝光镜头的曝光面作为所述投影模组的像面;
所述前透镜组包括依次设置的第一透镜,所述第一透镜为凸凹透镜;第二透镜,所述第二透镜为凸平透镜;第三透镜,所述第三透镜为凸凹透镜;第四透镜,所述第四透镜为平凸透镜;所述后透镜组包括依次设置的第五透镜,所述第五透镜为凹平透镜;第六透镜,所述第六透镜为凹凸透镜;第七透镜,所述第七透镜为凹凸透镜;第八透镜,所述第八透镜为凸平透镜;
投影模组透镜曲率半径R的范围如下:
第一透镜的物侧:110mmR140mm,第一透镜的像侧:90mmR120mm;
第二透镜的物侧:30mmR50mm,第二透镜的像侧:无穷大;
第三透镜的物侧:20mmR40mm,第三透镜的像侧:60mmR80mm;
第四透镜的物侧:无穷大,第四透镜的像侧:20mmR35mm;
第五透镜的物侧:10mmR20mm,第五透镜的像侧:无穷大;
第六透镜的物侧:65mmR85mm,第六透镜的像侧:25mmR45mm;
第七透镜的物侧:90mmR115mm,第七透镜的像侧:25mmR35mm;
第八透镜的物侧:85mmR105mm,第八透镜的像侧:无穷大。
2.根据权利要求1所述的无掩膜曝光镜头,其特征在于:所述准直透镜组包括依次设置的第一准直透镜,所述第一准直透镜为凹凸透镜;第二准直透镜,所述第二准直透镜为双凸透镜;第三准直透镜,所述第三准直透镜为凸凹透镜;第四准直透镜,所述第四准直透镜为平凸透镜。
3.根据权利要求2所述的无掩膜曝光镜头,其特征在于:所述第一准直透镜靠近物面为凹面,靠近像面为凸面,凹面的曲率半径大于凸面的曲率半径。
4.根据权利要求2所述的无掩膜曝光镜头,其特征在于:所述第二准直透镜靠近物面的曲率半径大于靠近像面的曲率半径。
5.根据权利要求2所述的无掩膜曝光镜头,其特征在于:所述第三准直透镜靠近物面为凸面,靠近像面为凹面,凸面的曲率半径大于凹面的曲率半径。
6.根据权利要求2所述的无掩膜曝光镜头,其特征在于:所述第四准直透镜靠近物面为平面,靠近像面为凸面。
7.根据权利要求1所述的无掩膜曝光镜头,其特征在于:所述汇聚透镜为双凸透镜。
8.根据权利要求1所述的无掩膜曝光镜头,其特征在于:所述无掩膜曝光镜头还包括第一反射镜以及第二反射镜,所述第一反射镜位于所述准直透镜组与所述汇聚透镜之间使经过所述准直透镜组的光反射至所述汇聚透镜,所述第二反射镜位于所述汇聚透镜与所述DMD芯片组件之间使经过所述汇聚透镜的光反射至所述DMD芯片组件上。
9.根据权利要求8所述的无掩膜曝光镜头,其特征在于:所述第一反射镜及所述第二反射镜之间的连线与所述准直透镜组所在的直线垂直。
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