[发明专利]一种无掩膜曝光镜头

说明书

本发明公开了一种无掩膜曝光镜头，包括DMD芯片组件、匀光棒、准直透镜组、汇聚透镜、前透镜组、光阑以及后透镜组，匀光棒、准直透镜组、汇聚透镜以及DMD芯片组件形成照明模组，匀光棒出光面作为照明模组的物面，DMD芯片组件作为照明模组的像面；DMD芯片组件、前透镜组、光阑以及后透镜组形成投影模组，DMD芯片组件作为投影模组的物面，无掩膜曝光镜头的曝光面作为投影模组的像面，通过上述设计，本发明无掩膜曝光镜头曝光面的照度均匀性大于98％。

技术领域

本发明涉及光学镜头，尤其是涉及一种微纳光刻用无掩膜曝光镜头。

背景技术

在微电子、光学、线路板等微加工领域，紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩膜式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩膜的曝光形式。而目前现有无掩膜曝光机采用的是光源、光源准直系统、DMD芯片以及投影模组的结构。但现有的无掩膜曝光镜头曝光面的照度均匀性不好。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明的目的之一在于提供一种曝光面的照度均匀性好的无掩膜曝光镜头。

本发明的目的之一采用以下技术方案实现：

一种无掩膜曝光镜头，包括DMD芯片组件、匀光棒、准直透镜组、汇聚透镜、前透镜组、光阑以及后透镜组，所述匀光棒、所述准直透镜组、所述汇聚透镜以及所述DMD芯片组件形成照明模组，所述匀光棒出光面作为所述照明模组的物面，所述DMD芯片组件作为所述照明模组的像面；所述DMD芯片组件、所述前透镜组、所述光阑以及所述后透镜组形成投影模组，所述DMD芯片组件作为所述投影模组的物面，无掩膜曝光镜头的曝光面作为所述投影模组的像面。

进一步地，所述准直透镜组包括依次设置的第一准直透镜，所述第一准直透镜为凹凸透镜；第二准直透镜，所述第二准直透镜为双凸透镜；第三准直透镜，所述第三准直透镜为凸凹透镜；第四准直透镜，所述第四准直透镜为平凸透镜。

进一步地，所述第一准直透镜靠近物面为凹面，靠近像面为凸面，凹面的曲率半径大于凸面的曲率半径。

进一步地，所述第二准直透镜靠近物面的曲率半径大于靠近像面的曲率半径。

进一步地，所述第三准直透镜靠近物面为凸面，靠近像面为凹面，凸面的曲率半径大于凹面的曲率半径。

进一步地，所述第四准直透镜靠近物面为平面，靠近像面为凸面。

进一步地，所述汇聚透镜为双凸透镜。

进一步地，所述前透镜组包括依次设置的第一透镜，所述第一透镜为凸凹透镜；第二透镜，所述第二透镜为凸平透镜；第三透镜，所述第三透镜为凸凹透镜；第四透镜，所述第四透镜为平凸透镜；所述后透镜组包括依次设置的第五透镜，所述第五透镜为凹平透镜；第六透镜，所述第六透镜为凹凸透镜；第七透镜，所述第七透镜为凹凸透镜；第八透镜，所述第八透镜为凸平透镜；

投影模组透镜曲率半径R的范围如下：

第一透镜的物侧：110mmR140mm，第一透镜的像侧：90mmR120mm；

第二透镜的物侧：30mmR50mm，第二透镜的像侧：无穷大；

第三透镜的物侧：20mmR40mm，第三透镜的像侧：60mmR80mm；

第四透镜的物侧：无穷大，第四透镜的像侧：20mmR35mm；

第五透镜的物侧：10mmR20mm，第五透镜的像侧：无穷大；

第六透镜的物侧：65mmR85mm，第六透镜的像侧：25mmR45mm；

第七透镜的物侧：90mmR115mm，第七透镜的像侧：25mmR35mm；

第八透镜的物侧：85mmR105mm，第八透镜的像侧：无穷大。