[发明专利]纳米压印离膜机构

权利要求书

1.一种纳米压印离膜机构，其特征在于，包括可弯转式支撑框架，其中，通过预先的压印工序覆盖在承载片上的待分离软膜固定在所述可弯转式支撑框架内；并且，

所述可弯转式支撑框架通过其自身任意角度的弯折以弯折所述待分离软膜的任意位置。

2.如权利要求1所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，

所述可弯转式支撑框架为链式结构。

3.如权利要求2所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，

所述可弯转式支撑框架包括首尾相连的N个微型支撑节；其中，相邻的两个微型支撑节的靠近端之间可进行固定支撑或分离。

4.如权利要求3所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，

相邻的两个的微型支撑节的靠近端之间固定支撑时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个微型支撑节对应的位置处于固定拉伸状态；当相邻的两个所述微型支撑节的靠近端之间分离时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。

5.如权利要求3所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，

在相邻的两个所述微型支撑节的靠近端分别设置有第一磁性部和第二磁性部，相邻的两个所述微型支撑节之间通过所述第一磁性部和所述第二磁性部之间的磁力实现固定支撑；并且，

当在外力的作用下，所述第一磁性部和所述第二磁性部分离时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。

6.如权利要求5所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，

还包括控制所述第一磁性部和所述第二磁性部的电磁阀，当所述电磁阀控制所述第一磁性部和/或所述第二磁性部失去磁力时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。

7.如权利要求3所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，

在相邻的两个所述微型支撑节之间还连接有柔性连接线。

8.如权利要求3所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，

所述微型支撑节为非磁性金属制件。

9.如权利要求1所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，

在所述可弯转式支撑框架上还设置有滚轮，所述待分离软膜通过所述可弯转式支撑框架配合所述滚轮自所述承载片上分离。

10.如权利要求1-9所述的纳米压印离膜机构，其特征在于，

在所述承载片与所述待分离软膜之间设置有胶材，所述胶材的分离部随所述待分离软膜进行分离，所述胶材除所述分离部外的剩余部分在所述承载片上形成光栅。