[发明专利]纳米压印离膜机构

说明书

本发明提供一种纳米压印离膜机构，包括可弯转式支撑框架，其中，通过预先的压印工序覆盖在承载片上的待分离软膜固定在所述可弯转式支撑框架内；并且，所述待分离软膜的任意位置可进行任意角度的弯折。利用上述发明能够有效地解决现有的离膜机构无法适用所有角度的光栅的问题。

技术领域

本发明涉及微/纳米压印加工技术领域，更为具体地，涉及一种纳米压印离膜机构。

背景技术

在微/纳米压印加工工序中，当压印完毕后，需要进行离膜处理。现有离膜方式(如图1和图4共同所示)为通过将软膜13’固定在框架15’上(两侧固定，前侧为调整侧151’，后侧为固定侧152’)，压印时软膜13’整体覆盖在承载片11’上，上面使用滚轮14’将软膜13’上的图案压印到承载片11’上(承载片11’表面胶材12’形成所需图案，即光栅的图案)，而分离时，通过缓慢抬起框架15’的调整侧151’，在滚轮14’的配合下进行软膜13’与承载片11’的分离，此过程即为离膜；在离膜的过程中，部分废弃的胶材(即分离部122’)会随软膜分离走，剩余的胶材即可在承载片11’上形成所需图案的光栅121’。

然而，在实际离膜过程中，因软膜13’的固定方式不变，离膜时的角度也基本不会有太大变化，但因光栅121’结构设计的不同，光栅121’的角度、深度、间距都有不同。

如遇到顺向的光栅121’(如图2所示，与离膜时角度相同)，由于分离部122’与光栅的角度方向一致，离膜阻力较低，易出现脱模现象。如遇到逆向的光栅121’(如图3所示，与离膜时角度相反)，由于分离部122’与光栅的角度方向不一致，离膜阻力较大，且由于框架15’为硬质支架，无法根据需求进行有效弯曲，因此分离时会造成离膜难度大大增加，甚至造成分离不开的情况，造成离膜失败，整片承载片11’报废。

基于以上技术问题，亟需一种能够适用不同角度光栅的离膜机构。

发明内容

鉴于上述问题，本发明的目的是提供一种纳米压印离膜机构，以解决现有的离膜机构无法适用所有角度的光栅的问题。

本发明实施例中提供的纳米压印离膜机构，通过预先的压印工序覆盖在承载片上的待分离软膜固定在所述可弯转式支撑框架内；并且，

所述可弯转式支撑框架通过其自身任意角度的弯折以弯折所述待分离软膜的任意位置。

此外，优选的结构是，所述可弯转式支撑框架为链式结构。

此外，优选的结构是，所述可弯转式支撑框架包括首尾相连的N个微型支撑节；其中，相邻的两个微型支撑节的靠近端之间可进行固定支撑或分离；其中，

当相邻的两个的微型支撑节的靠近端之间固定支撑时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个的微型支撑节对应的位置处于固定拉伸状态；当相邻的两个所述微型支撑节的靠近端之间分离时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。

此外，优选的结构是，在相邻的两个所述微型支撑节的靠近端分别设置有第一磁性部和第二磁性部，相邻的两个所述微型支撑节之间通过所述第一磁性部和所述第二磁性部之间的磁力实现固定支撑；并且，

当在外力的作用下，所述第一磁性部和所述第二磁性部分离时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。

此外，优选的结构是，还包括控制所述第一磁性部和所述第二磁性部的电磁阀，当所述电磁阀控制所述第一磁性部和/或所述第二磁性部失去磁力时，所述可弯转式支撑框架上的与相邻的两个所述微型支撑节对应的位置可进行任意角度弯折。

此外，优选的结构是，在相邻的两个所述微型支撑节之间还连接有柔性连接线。

此外，优选的结构是，所述微型支撑节为非磁性金属制件。