[发明专利]一种组合窑变釉料、组合窑变釉料瓷器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110495661.6 申请日: 2021-05-07
公开(公告)号: CN113213888B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 温华;徐在源;施占杰 申请(专利权)人: 武汉遇知音文化发展有限公司
主分类号: C04B33/04 分类号: C04B33/04;C04B33/13;C04B41/89;C03C8/00
代理公司: 武汉天领众智专利代理事务所(普通合伙) 42300 代理人: 高兰
地址: 430000 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 组合 釉料 瓷器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种组合窑变釉料,其特征在于,包括底釉釉料、第一中间釉料、第二中间釉料和面釉釉料,以重量份计:

所述底釉釉料包括如下组分:霞石正长石65~75份,白云石3~5份,石灰石2~4份,瓷土5~10份,膨润土3~5份;

所述第一中间釉料包括如下组分:霞石正长石65~75份,白云石3~5份,石灰石2~4份,氧化锌5~10份,膨润土3~5份,石英5~10份,色剂5~10份;

所述第二中间釉料包括如下组分:霞石正长石60~70份,白云石5~10份,氧化锌1~2份,膨润土3~5份,金红石5~10份,钛铁矿5~10份;

所述面釉釉料包括如下组分:霞石正长石70~80份,白云石5~10份,氧化锌2~3份,膨润土3~5份,石英3~5份;

在素烧坯体上依次喷涂所述的底釉釉料、所述的第二中间釉料、所述的第一中间釉料和所述的面釉釉料进行上釉料操作,制得釉坯。

2.一种组合窑变釉料瓷器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1、坯料制备:以重量份计,所述坯料包括如下组分:高岭土35~45份,长石15~25份,石英10~20份,陶土8~10份,瓷石10~20份,镁质土2~5份,然后准确称取上述坯料,经过研磨、脱水成饼、均化陈腐和抽真空操作后,制得坯料;

S2、釉料制备:准确称取权利要求1中所述底釉釉料、所述第一中间釉料、所述第二中间釉料和所述面釉釉料,经过研磨后,制得釉料;

S3、坯体素烧:将步骤S1中制得的坯料进行压坯、干燥和修坯后,置于窑炉中素烧;

S4、坯体上釉:首先去掉步骤S3中素烧坯体表面灰层,在其表面涂抹清水,然后依次喷涂权利要求1所述的底釉釉料、所述的第二中间釉料、所述的第一中间釉料和所述的面釉釉料进行上釉料操作,制得釉坯;

S5、彩烧:在步骤S4中制得的釉坯上绘制不同的元素,然后置于彩烤炉中彩烧,制得组合窑变釉料瓷器。

3.如权利要求2所述的组合窑变釉料瓷器的制备方法,其特征在于,步骤S4中,所述上釉料操作,具体如下:

第一次上釉,均匀喷涂权利要求1所述的底釉釉料,之后置于窑炉中并在一定温度下还原烧成;

第二次上釉,在所述第一次上釉制得的坯体上不均匀喷涂权利要求1所述的第二中间釉料,形成釉面的凹凸感,之后置于窑炉中并在一定温度下还原烧成;

第三次上釉,在所述第二次上釉制得坯体上不均匀喷涂权利要求1所述的第一中间釉料进行覆盖,之后置于窑炉中并在一定温度下还原烧成;

第四次上釉,在所述第三次上釉制得坯体上均匀喷涂权利要求1所述的面釉釉料之后置于窑炉中并在一定温度下还原烧成。

4.如权利要求3所述的组合窑变釉料瓷器的制备方法,其特征在于,所述第一次上釉的过程中,还原烧成的温度为1260~1280℃,时间9~10 h;所述第二次上釉的过程中,还原烧成的温度为1280~1300℃,时间10~11h;所述第三次上釉的过程中,还原烧成的温度为1300~1320℃,时间11~12 h;所述第四次上釉的过程中,还原烧成的温度为1280~1300℃,时间9~10 h。

5.如权利要求2所述的组合窑变釉料瓷器的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述研磨是将坯料置于球磨机中湿磨,其中坯料、球和水的重量比为1:(1.4~1.6):(0.7~0.9),球磨20~22 h,经万孔筛余后,出磨细度在3~5%之间;然后进行脱水成饼操作,使水分含量在23~25%之间;接着均化陈腐1~2个月,最后进行抽真空操作,使水分含量在20~22%之间。

6.如权利要求2所述的组合窑变釉料瓷器的制备方法,其特征在于,步骤S2中,所述研磨是将釉料置于球磨机中湿磨,其中釉料、球和水的重量比为1:(1.9~2.1):(0.5~0.7),球磨24~26 h,细度达到万孔筛余0.2~0.4%之间。

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