[发明专利]OLED像素形成用掩模、掩模支撑模板及框架一体型掩模

权利要求书

1.一种OLED像素形成用掩模，该掩模形成有多个掩模图案，其中，掩模图案包括上部的第一掩模图案与下部的第二掩模图案，

第一掩模图案的厚度大于第二掩模图案的厚度，

第一掩模图案的两侧面具有凹状的曲率，

第一掩模图案的上部宽度大于第二掩模图案的下部宽度，第一掩模图案的下部宽度小于第二掩模图案的下部宽度。

2.如权利要求1所述的OLED像素形成用掩模，其中，第二掩模图案的两侧面具有凸状的曲率。

3.如权利要求1所述的OLED像素形成用掩模，其中，第一掩模图案与第二掩模图案形状的和整体上呈现锥形或者倒锥形。

4.如权利要求1所述的OLED像素形成用掩模，其中，连接第一掩模图案的上端角部至第一掩模图案的下端角部的虚直线与掩模的下部面形成的角度小于60°且大于0。

5.如权利要求1所述的OLED像素形成用掩模，其中，第一掩模图案的下部宽度大于15.4μm且小于35μm。

6.如权利要求1所述的OLED像素形成用掩模，其中，掩模的厚度为5μm至20μm。

7.一种掩模支撑模板，用于支撑OLED像素形成用掩模，该掩模支撑模板包括：

模板；

临时粘合部，其形成在模板上；以及

掩模，其通过夹设临时粘合部粘合在模板上且形成有多个掩模图案，

掩模图案包括上部的第一掩模图案与下部的第二掩模图案，第一掩模图案的厚度大于第二掩模图案的厚度，第一掩模图案的两侧面具有凹状的曲率，第一掩模图案的上部宽度大于第二掩模图案的下部宽度，第一掩模图案的下部宽度小于第二掩模图案的下部宽度。

8.如权利要求7所述的掩模支撑模板，其中，临时粘合部上还形成有隔板绝缘部，掩模通过夹设有临时粘合部和隔板绝缘部粘合在模板的上部面。

9.如权利要求8所述的掩模支撑模板，其中，第二掩模图案的两侧面可具有凸状曲率。

10.如权利要求8所述的掩模支撑模板，其中，第一掩模图案和第二掩模图案利用湿蚀刻形成，对第二掩模图案进行湿蚀刻时，蚀刻液在隔板绝缘部的露出部分沿着侧面方向进行蚀刻，使第二掩模图案的下部宽度大于上部宽度。

11.一种框架一体型掩模，其由多个掩模及用于支撑掩模的框架一体形成，其中，

框架包括：

边缘框架部，其包括中空区域；

掩模单元片材部，其具有多个掩模单元区域且与边缘框架部连接；

形成有多个掩模图案的各掩模与掩模单元片材部的上部连接，

掩模图案包括上部的第一掩模图案与下部的第二掩模图案，

第一掩模图案的厚度大于第二掩模图案的厚度，

第一掩模图案的两侧面具有凹状的曲率，

第一掩模图案的上部宽度大于第二掩模图案的下部宽度，

第一掩模图案的下部宽度小于第二掩模图案的下部宽度。