[发明专利]一种光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法

权利要求书

1.一种光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法，其特征在于，包括将二芳基二氢吩嗪(I)、苯乙烯类化合物(II)和卤代烷基酸酯(III)溶于溶剂中，加入碱或者不加碱，然后在光照下反应，所述光照的光源波长为280～600nm，或者所述光照的光源为太阳光，其反应式如下：

其中：

R₁选自氢、C1-C5烷基、卤素、硝基、胺基、苯基、氰基、C1-C5烷氧基或C1-C5卤代烷基；

R₂选自C1-C5烷基、苯基、苄基或C1-C5卤代烷基；

R₃选自氢、C1-C5烷基、卤素、硝基、胺基、苯基、氰基、C1-C5烷氧基或C1-C5卤代烷基；

R₄、R₅和R₆独立的选自C1-C5烷基；R₇选自卤素。

2.根据权利要求1所述的光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法，其特征在于，所述R₁选自氢、甲基、乙基、异丙基、叔丁基、氟、氯、硝基、胺基、苯基、氰基、甲氧基或三氟甲基。

3.根据权利要求1所述的光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法，其特征在于，所述R₂选自甲基、乙基、异丙基、叔丁基、苯基、苄基或三氟甲基。

4.根据权利要求1所述的光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法，其特征在于，所述R₃选自氢、甲基、乙基、异丙基、叔丁基、氟、氯、硝基、胺基、苯基、氰基、甲氧基或三氟甲基。

5.根据权利要求1所述的光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法，其特征在于，所述卤代烷基酸酯选自2-溴异丁酸甲酯、2-溴-2-甲基丙酸乙酯、2-溴代异丁酸异丙酯、2-溴代异丁酸叔丁酯、2-溴乙基α-溴异丁酸、乙基1-溴环丁烷甲酸酯、2-氯异丁酸甲酯、2-氯-2-甲基丙酸乙酯、2-碘异丁酸甲酯或2-碘-2-甲基丙酸乙酯。

6.根据权利要求1所述的光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法，其特征在于，所述碱为碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸钾、磷酸钾、磷酸二氢钾、氢氧化钙、氢氧化钾中的任意一种或几种组合。

7.根据权利要求1所述的光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法，其特征在于，所述溶剂为二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺、甲醇、乙醇、水、N,N-二甲基乙酰胺、1,4-二氧六环、甲苯和四氢呋喃中的任意一种或几种组合。

8.根据权利要求1所述的光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法，其特征在于，所述二芳基二氢吩嗪、苯乙烯类化合物和卤代烷基酸酯之间的投料配比为1：2～40：2～60。

9.根据权利要求1所述的光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法，其特征在于，所述反应的温度为-10～90℃。

10.根据权利要求1所述的光调节二芳基二氢吩嗪修饰的方法，其特征在于，所述反应的时间为0.5h～36h。