[发明专利]一种光电光谱响应范围调控方法及系统在审

专利信息
申请号: 202110509687.1 申请日: 2021-05-11
公开(公告)号: CN113189006A 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: 李全军;李宗伦;李海燕;刘冰冰 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/27
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王爱涛
地址: 130012 吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 一种 光电 光谱 响应 范围 调控 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种光电光谱响应范围调控方法,其特征在于,包括:

采用金刚石对顶砧对封垫材料进行预压,在压痕中心用激光钻取一个圆孔作为样品腔;

在所述样品腔中填充一层光电材料,光电材料两端分别连接一个铂片作为电极;

将两个所述电极分别与数字源表的探针连接,利用所述数字源表对所述光电材料施加5V偏压;

将所述金刚石对顶砧的样品腔中放置标压物质,用于标定压力;

闭合所述金刚石对顶砧,旋转加压螺丝,对所述光电材料施加高压,使样品腔内达到预设压力;

将近红外激光透过金刚石照射到光电材料上,对有无光照进行控制,利用数字源表显示所述预设压力下的电流-时间曲线;

根据多个不同预设压力下的电流-时间曲线确定光电光谱响应范围。

2.根据权利要求1所述的一种光电光谱响应范围调控方法,其特征在于,将所述电极与所述样品腔做绝缘处理。

3.根据权利要求2所述的一种光电光谱响应范围调控方法,其特征在于,所述将所述电极与所述样品腔做绝缘处理,具体包括:

将所述样品腔内填满氮化硼粉末,进行预压至20GPa以上,使所述氮化硼粉末与所述样品腔紧密贴合后绝缘。

4.根据权利要求1所述的一种光电光谱响应范围调控方法,其特征在于,所述将两个所述电极分别与数字源表的探针连接,具体包括:

将两个漆包线的去漆一端分别与两个所述电极连接,将其中一个所述漆包线的另一端与数字源表的一个探针连接,将另一个所述漆包线的另一端与数字源表的另一个探针连接。

5.根据权利要求1所述的一种光电光谱响应范围调控方法,其特征在于,所述对有无光照进行控制,利用数字源表显示所述预设压力下的电流-时间曲线,具体包括:

有光照的时间为第一设定时间,无光照的时间为第二设定时间,所述第一设定时间和所述第二设定时间的和为一个周期,通过数字源表显示所述预设压力下的电流-时间曲线。

6.根据权利要求1所述的一种光电光谱响应范围调控方法,其特征在于,所述对所述光电材料施加高压,具体包括:

初始压力为1.2GPa,加压梯度控制在1.5GPa以内。

7.根据权利要求6所述的一种光电光谱响应范围调控方法,其特征在于,所述高压的范围为1.2GPa-5.8GPa。

8.根据权利要求1所述的一种光电光谱响应范围调控方法,其特征在于,所述光电材料为半导体碘。

9.根据权利要求1所述的一种光电光谱响应范围调控方法,其特征在于,所述标压物质为红宝石。

10.一种光电光谱响应范围调控系统,其特征在于,所述光电光谱响应范围调控系统应用于权利要求1-9任一项所述的光电光谱响应范围调控方法,所述光电光谱响应范围调控系统包括:金刚石对顶砧、封垫材料、光电材料、两个铂电极以及数字源表;

所述金刚石对顶砧包括加压螺丝,所述加压螺丝用于对所述光电材料施加高压;

所述封垫材料包括样品腔,所述金刚石对顶砧的砧面嵌入所述样品腔中;所述光电材料放在所述样品腔中,所述砧面在所述光电材料上层,所述光电材料和所述样品腔之间绝缘;

所述光电材料两端分别连接一个所述铂电极,两个所述铂电极分别与所述数字源表的探针连接;利用所述数字源表对所述光电材料施加5V偏压并显示预设压力下的电流-时间曲线。

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