[发明专利]一种光电光谱响应范围调控方法及系统

说明书

本发明涉及光电光谱响应范围调控方法，包括：采用金刚石对顶砧对封垫材料进行预压，在压痕中心钻取一个圆孔作为样品腔；在样品腔中填充一层光电材料，光电材料两端分别连接一个铂片作为电极；将两个电极分别与数字源表的探针连接，利用数字源表对光电材料加5V偏压；将金刚石对顶砧的样品腔中放置标压物质，用于标定压力；闭合金刚石对顶砧，旋转加压螺丝，对光电材料加高压，使样品腔内达到预设压力；将近红外激光透过金刚石照射到光电材料上，对有无光照进行控制，利用数字源表显示预设压力下的电流‑时间曲线；根据多个不同预设压力下的电流‑时间曲线确定光电光谱响应范围。本发明拓宽了光电材料的响应范围，扩大了光电探测器的应用领域。

技术领域

本发明涉及压力调控光电材料性能领域，特别是涉及一种光电光谱响应范围的调控方法及系统。

背景技术

光电探测器作为光电子工业的核心组成部分，广泛应用于光电显示、光通信、成像、安全检查等诸多领域。随着社会的发展，高响应率、高探测率、宽光谱响应范围的光电探测器已成为日后发展的迫切需求。然而，现有的光电探测器的应用领域往往受到光电材料带隙的限制。由于光电材料的带隙大，导致光电材料的光谱响应范围窄，使探测波段小，从而使光电探测器的应用领域受到限制，因此，扩展光电材料的光谱响应范围可以极大地扩展光电探测器的应用领域。高压作为一种重要的外部刺激，是改变材料结构和带隙的有力手段，这使光电子功能材料的光谱响应范围可调成为可能。然而，虽然高压已被证明是有效的调节光电相关材料的性能，但高压对光电光谱响应范围的扩展还没有相关的研究。

发明内容

本发明的目的是提供一种光电光谱响应范围调控方法及系统，以解决现有技术中的光电探测器的应用领域小的问题。

为实现上述目的，本发明提供了如下方案：

一种光电光谱响应范围调控方法，包括：

采用金刚石对顶砧对封垫材料进行预压，在压痕中心用激光钻取一个圆孔作为样品腔；

在所述样品腔中填充一层光电材料，光电材料两端分别连接一个铂片作为电极；

将两个所述电极分别与数字源表的探针连接，利用所述数字源表对所述光电材料施加5V偏压；

将所述金刚石对顶砧的样品腔中放置标压物质，用于标定压力；

闭合所述金刚石对顶砧，旋转加压螺丝，对所述光电材料施加高压，使样品腔内达到预设压力；

将近红外激光透过金刚石照射到光电材料上，对有无光照进行控制，利用数字源表显示所述预设压力下的电流-时间曲线；

根据多个不同预设压力下的电流-时间曲线确定光电光谱响应范围。

可选的，将所述电极与所述样品腔做绝缘处理。

可选的，所述将所述电极与所述样品腔做绝缘处理，具体包括：

将所述样品腔内填满氮化硼粉末，进行预压至20GPa以上，使所述氮化硼粉末与所述样品腔紧密贴合后绝缘。

可选的，所述将两个所述电极分别与数字源表的探针连接，具体包括：

将两个漆包线的去漆一端分别与两个所述电极连接，将其中一个所述漆包线的另一端与数字源表的一个探针连接，将另一个所述漆包线的另一端与数字源表的另一个探针连接。

可选的，所述对有无光照进行控制，利用数字源表显示所述预设压力下的电流-时间曲线，具体包括：

有光照的时间为第一设定时间，无光照的时间为第二设定时间，所述第一设定时间和所述第二设定时间的和为一个周期，通过数字源表显示所述预设压力下的电流-时间曲线。

可选的，所述对所述光电材料施加高压，具体包括：