[发明专利]基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法

权利要求书

1.一种基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法，其特征在于，包括：

预设角膜(1)顶点到角膜地形图仪中Placido盘(2)顶点的距离和角膜(1)顶点到角膜地形图仪中光阑(3)的距离；

设置Placido盘(2)的面型对应的表达式；

计算光阑(3)处的像差函数；

以像差函数作为评价函数，以Placido盘(2)表面参数为变量，进行模拟退火运算，计算得到像差最小时的Placido盘(2)表面参数。

2.根据权利要求1所述的基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法，其中，所述Placido盘(2)的面型为旋转二次曲面。

3.根据权利要求2所述的基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法，其中，在所述角膜(1)顶点处建立空间坐标系，以角膜(1)顶点O为原点，以主光轴(4)为z轴，Placido盘(2)的面型对应的表达式为x²+y²＝a(z-H)+b(z-H)²，a＝-2R，R为Placido盘(2)顶点处的半径值，b代表旋转二次曲线的类型，H代表角膜(1)顶点到角膜地形图仪中Placido盘(2)顶点的距离。

4.根据权利要求3所述的基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法，其中，b与旋转二次曲面类型的关系为：

当b＜-1，旋转二次曲面的类型为扁椭球；

当b＝-1，旋转二次曲面的类型为球体；

当-1＜b＜0，旋转二次曲面的类型为长椭球；

当b＝0，旋转二次曲面的类型为抛物面；

当b＞0，旋转二次曲面的类型为双曲面。

5.根据权利要求1所述的基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法，其中，所述模拟退火运算的过程如下：

预设变量初始值T、L、T_f,在每个温度T下，得到计算结果，然后将温度降低得到另一个结果，L为每个固定温度下的最大迭代次数，T_f为参考值，

4.1、随机生成一组初始解，预设降温的函数为T_new＝hT；

4.2、计算，包括如下过程：

4.2.1、预设C＝0，C是一个迭代计数器；

4.2.2、随机产生一组新的Placido盘(2)表面参数，计算新解，并与初始解比较，进行选择；

4.2.3、C＝C+1，如果C≤L，转到4.2.2；

4.2.4、如果T≤T_f,转到4.3；

4.2.5、更新温度，程序将会回到步骤4.2.1；

4.3、停止；

4.4、输出此时的Placido盘(2)表面参数的数值。

6.根据权利要求5所述的基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法，其中，步骤4.2.2中选择的过程如下：

如果新解小于初始解，那么新的Placido盘(2)表面参数将会替代旧的Placido盘(2)表面参数，否则，随机产生一个在[0，1]范围内的数值i，如果i＜exp[-(F_c+1-F_c)/kT]，新的Placido盘(2)表面参数将会被接受，其中k是玻尔兹曼常数，T是此时的温度。

7.根据权利要求1、5以及6中的任一项所述的基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法，其中，所述Placido盘(2)表面参数包括a和b，a＝-2R，R为Placido盘(2)顶点处的半径值，b代表旋转二次曲线的类型。