[发明专利]基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法在审

专利信息
申请号: 202110512500.3 申请日: 2021-05-11
公开(公告)号: CN113204885A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 田苗;吴春波;张培茗;曾祥堉 申请(专利权)人: 上海观爱医疗科技有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;A61B3/107;G06F111/06
代理公司: 江苏商和专律师事务所 32444 代理人: 岑志剑
地址: 200120 上海市浦东新区中国(上海)*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 基于 模拟 退火 算法 placido 盘面 设计 方法
【说明书】:

本发明提出一种基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法,包括:预设角膜顶点到角膜地形图仪中Placido盘顶点的距离和角膜顶点到角膜地形图仪中光阑的距离,作为后续优化的初始条件;设置Placido盘的面型对应的表达式;根据像差原理计算光阑处的像差函数;以像差函数作为评价函数,以Placido盘表面参数为变量,进行模拟退火运算,计算得到像差最小时的Placido盘表面参数。通过上述的方法计算形成的Placido盘具有在光阑处具有较小的像差,减少了后续镜头组的设计难度,并有助于提高后续图像处理的精度的优点。

技术领域

本发明涉及视光学技术领域,特别涉及一种基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法。

背景技术

角膜提供了眼睛光学系统的大部分屈光能力,占总屈光力的70%以上。因此,其微小的变化将会造成人眼屈光状态的巨大变化,对图像聚焦在视网膜上的清晰度产生显著影响,影响人的视力。因此需要对角膜进行精确的测量。

基于Placido盘的角膜地形图仪系统使用由一系列黑白同心环作为物面,经过角膜成像在传感器上,传感器位于板的中心孔后面,后续通过计算机分析由角膜反射的虚像,可以得到角膜不同位置处的曲率。其具有结构简单、测量方便等的优点,应用的最为广泛。

Placido盘的形状将对成像的质量有重要影响,在先专利(CN 111803025 A)中,Placido盘系统使用圆锥体、半球体、圆柱形或椭圆形表面作为物面,目的是减小由于面型带来的像差。但是这种设计应用范围较小,面型加工复杂。

发明内容

本发明的目的提供一种基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法,解决上述现有技术问题中的一个或多个。

本发明提出一种基于模拟退火算法的Placido盘面型设计方法,包括:

预设角膜顶点到角膜地形图仪中Placido盘顶点的距离和角膜顶点到角膜地形图仪中光阑的距离;

设置Placido盘的面型对应的表达式;

计算光阑处的像差函数;

以像差函数作为评价函数,以Placido盘表面参数为变量,进行模拟退火运算,计算得到像差最小时的Placido盘表面参数。

在某些实施方式中,所述光阑处的像差函数根据像差原理计算。

在某些实施方式中,所述Placido盘的面型为旋转二次曲面。

在某些实施方式中,在所述角膜顶点处建立空间坐标系,以角膜顶点O'为原点,以主光轴为z轴,Placido盘的面型对应的表达式为x2+y2=a(z-H)+b(z-H)2,a=-2R,R为Placido盘顶点处的半径值,b代表旋转二次曲线的类型,H代表角膜顶点到角膜地形图仪中Placido盘顶点的距离。

在某些实施方式中,b与旋转二次曲面类型的关系为:

当b<-1,旋转二次曲面的类型为扁椭球;

当b=-1,旋转二次曲面的类型为球体;

当-1<b<0,旋转二次曲面的类型为长椭球;

当b=0,旋转二次曲面的类型为抛物面;

当b>0,旋转二次曲面的类型为双曲面。

在某些实施方式中,所述模拟退火运算的过程如下:

预设变量初始值T、L、Tf,在每个温度T下,得到计算结果,然后将温度降低得到另一个结果,L为每个固定温度下的最大迭代次数,Tf为参考值,

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