[发明专利]光刻胶剂烘烤设备在审
申请号: | 202110528811.9 | 申请日: | 2021-05-14 |
公开(公告)号: | CN113703293A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 陈柏宏;陈裕凯 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/38 | 分类号: | G03F7/38;G03F7/40 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 聂慧荃;闫华 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 烘烤 设备 | ||
1.一种光刻胶剂烘烤设备,包括:
一烘烤室,在该烘烤室的一侧壁上具有一排气口;
一烤盘,设置于该烘烤室中,配置用以支撑一晶片及加热在该晶片上方的一光刻胶剂材料;
一排气管路,连接到该排气口,配置用以排出该烘烤室内部的一气体;以及
一盖板,设置于该烤盘上方且位于该烤盘和该排气口之间,其中该盖板具有多个排气孔以允许空气流过,其中,较远离该排气口的多个所述排气孔中的一个的尺寸大于较靠近该排气口的多个所述排气孔中的一个的尺寸。
2.如权利要求1所述的光刻胶剂烘烤设备,其中该排气管路配置用以通过该排气口沿一排气方向排出该烘烤室内部的该气体,其中多个所述排气孔包括沿与该排气方向平行的一第一方向排列的一第一排气孔及一第二排气孔,其中,该第一排气孔比该第二排气孔更远离该排气口,并且该第一排气孔的尺寸大于该第二排气孔的尺寸。
3.如权利要求2所述的光刻胶剂烘烤设备,其中多个所述排气孔还包括排列于该第一方向上且位于该第一排气孔和该第二排气孔之间的一第三排气孔,其中,该第三排气孔的尺寸大于该第二排气孔的尺寸且小于该第一排气孔的尺寸。
4.如权利要求2所述的光刻胶剂烘烤设备,其中多个所述排气孔还包括沿与该排气方向垂直的一第二方向排列的一第四排气孔及一第五排气孔,其中,该第四排气孔比该第五排气孔更远离该排气口,并且该第四排气孔的尺寸大于该第五排气孔的尺寸。
5.如权利要求1所述的光刻胶剂烘烤设备,其中当沿垂直于该盖板的一顶表面的一方向观察时,该排气口与该盖板的一中心线对准,并且多个所述排气孔相对于该中心线呈对称排列。
6.如权利要求1所述的光刻胶剂烘烤设备,其中当沿垂直于该盖板的一顶表面的一方向观察时,该排气口偏离该盖板的一中心线,并且多个所述排气孔相对于该中心线呈非对称排列。
7.一种光刻胶剂烘烤设备,包括:
一烘烤室,在该烘烤室的一侧壁上具有一排气口;
一烤盘,设置于该烘烤室中,配置用以支撑一晶片及加热在该晶片上方的一光刻胶剂材料;
一排气管路,连接到该排气口,配置用以排出该烘烤室内部的一气体;以及
一盖板,设置于该烤盘上方且位于该烤盘和该排气口之间,其中该盖板具有多个排气孔以允许空气流过,
其中,多个所述排气孔包括位于该盖板的一第一区域中的一组第一排气孔及位于该盖板的一第二区域中的一组第二排气孔,其中该第一区域比该第二区域更远离该排气口,多个所述第一排气孔各自具有一第一尺寸,并且多个所述第二排气孔各自具有小于该第一尺寸的一第二尺寸。
8.如权利要求7所述的光刻胶剂烘烤设备,其中多个所述第一排气孔具有一第一间距,并且多个所述第二排气孔具有一第二间距,该第二间距小于该第一间距。
9.如权利要求8所述的光刻胶剂烘烤设备,其中该排气管路配置用以通过该排气口沿一排气方向排出该烘烤室内部的该气体,其中,该第一区域和该第二区域沿与该排气方向平行的一第一方向排列。
10.一种光刻胶剂烘烤设备,包括:
一烘烤室,在该烘烤室的一侧壁上具有一排气口;
一烤盘,设置于该烘烤室中,配置用以支撑一晶片及加热在该晶片上方的一光刻胶剂材料;
一排气管路,连接到该排气口,配置用以沿一排气方向排出该烘烤室内部的一气体;以及
一盖板,设置于该烤盘上方且位于该烤盘和该排气口之间,其中该盖板具有多个排气孔以允许空气流过,
其中,多个所述排气孔包括位于该盖板的一第一区域中的一组第一排气孔及位于该盖板的一第二区域中的一组第二排气孔,其中该第一区域和该第二区域沿与该排气方向平行的一第一方向排列,该第一区域比该第二区域更远离该排气口,多个所述第一排气孔各自具有一第一尺寸,并且多个所述第二排气孔各自具有小于该第一尺寸的一第二尺寸,
其中多个所述排气孔还包括位于该盖板的一第三区域中的一组第三排气孔及位于该盖板的一第四区域中的一组第四排气孔,其中,该第三区域和该第四区域沿与该排气方向垂直的一第二方向排列,该第三区域比该第四区域更远离该排气口,多个所述第三排气孔各自具有一第三尺寸,并且多个所述第四排气孔各自具有小于该第三尺寸的一第四尺寸。
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