[发明专利]一种辉光放电质谱中高纯铟的制样方法有效
| 申请号： | 202110530105.8 | 申请日： | 2021-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN113237945B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;来兴艳 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/68 | 分类号： | G01N27/68;G01N1/28 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 辉光 放电 质谱中 高纯 方法 | ||
1.一种辉光放电质谱中高纯铟的制样方法，其特征在于，所述制样方法包括：
将高纯铟样品首先进行压片处理，得到高纯铟片；
对所述高纯铟片进行刺孔处理，之后依次进行第一酸处理、第二酸处理、第三酸处理及漂洗，得到待测高纯铟样品；
所述刺孔处理为在所述高纯铟片的表面设置0.01-0.2mm的孔洞；所述孔洞在高纯铟片表面均匀分布；相邻所述孔洞之间的距离为0.5-0.6mm；
所述第一酸处理中用的酸为混合酸，所述混合酸为硝酸和氢氟酸的混合酸；
所述第二酸处理中用的酸为硝酸；
所述第三酸处理包括依次进行的硝酸处理和混合酸处理，所述混合酸处理中的采用的酸为体积比为1:(0.7-0.9)的硝酸和氢氟酸的混合酸。
2.如权利要求1所述的制样方法，其特征在于，所述压片处理为将高纯铟样品压为厚度为2-4mm的薄片。
3.如权利要求1所述的制样方法，其特征在于，所述第一酸处理的时间为5-6min。
4.如权利要求1所述的制样方法，其特征在于，所述第二酸处理的时间为3-4min。
5.如权利要求1所述的制样方法，其特征在于，所述第二酸处理至少进行2次。
6.如权利要求1所述的制样方法，其特征在于，所述硝酸处理的时间为2-3min。
7.如权利要求1所述的制样方法，其特征在于，所述混合酸处理的时间为20-30s。
8.如权利要求1所述的制样方法，其特征在于，所述漂洗包括依次进行的水洗和乙醇洗。
9.如权利要求8所述的制样方法，其特征在于，所述水洗至少进行3次。
10.如权利要求1-9任一项所述的制样方法，其特征在于，所述制样方法包括：
将高纯铟样品首先进行压片处理，得到高纯铟片；
对所述高纯铟片进行刺孔处理，之后依次进行第一酸处理、第二酸处理、第三酸处理及漂洗，得到待测高纯铟样品；
所述压片处理为将高纯铟样品压为厚度为2-4mm的薄片；
所述刺孔处理为在所述高纯铟片的表面设置0.01-0.2mm的孔洞，所述孔洞在高纯铟片表面均匀分布，相邻所述孔洞之间的距离为0.5-0.6mm；
所述第一酸处理中用的酸为混合酸，所述混合酸为硝酸和氢氟酸的混合酸，所述混合酸中硝酸和氢氟酸的体积比为(1-1.2):1，所述第一酸处理的时间为5-6min；
所述第二酸处理中用的酸为硝酸，所述第二酸处理的时间为3-4min，所述第二酸处理至少进行2次；
所述第三酸处理包括依次进行的硝酸处理和混合酸处理，所述硝酸处理的时间为2-3min，所述混合酸处理中的采用的酸为体积比为1:(0.7-0.9)的硝酸和氢氟酸的混合酸，所述混合酸处理的时间为20-30s；
所述漂洗包括依次进行的水洗和乙醇洗，所述水洗至少进行3次。
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